[发明专利]投射装置和投射控制装置

摘要

提供能够避免来自外部的紫外光所导致的坏影响的投射装置。投射装置（20）具备光学元件（50）、照射装置（60）、光调制器（30）、中间光学系统（70）以及投射光学系统（80）。投射装置（20），由扫射器件（65）利用相干光在全息图记录介质（55）上扫射，将由全息图记录介质（55）漫射的相干光入射至中间光学系统（70），由该中间光学系统（70）抑制相干光的发散角，然后，对被照明区域（LZ）进行照明。由此，能够降低由全息图记录介质（55）漫射的相干光中的未利用于被照明区域（LZ）的照明的相干光的比例，能谋求被照明区域（LZ）的照明强度的提高。

主权项

一种投射装置，其特征在于，具备：光学元件，能够使相干光漫射；照射装置，以相干光在所述光学元件上连续地扫射的方式，使所述相干光的反射角度随时间的经过而发生变化来照射所述光学元件；光调制器，由从所述照射装置入射至所述光学元件的各位置而被漫射的相干光来照明；投射光学系统，将由所述光调制器生成的调制图像投射至漫射面；以及中间光学系统，配置于所述光学元件与所述光调制器之间，抑制由所述光学元件漫射的相干光的漫射角度，从所述光学元件漫射的相干光，在由所述中间光学系统抑制漫射角度之后，不依赖于所述光学元件上的扩散位置地反复对所述光调制器进行照明。