[发明专利]创建对称FIB沉积的方法和系统在审
申请号: | 201510347983.0 | 申请日: | 2015-06-23 |
公开(公告)号: | CN105200394A | 公开(公告)日: | 2015-12-30 |
发明(设计)人: | S.E.富勒;O.西多罗夫 | 申请(专利权)人: | FEI公司 |
主分类号: | C23C16/448 | 分类号: | C23C16/448 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 申屠伟进;张懿 |
地址: | 美国俄*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 提供了一种使用利用成角度的射束的带电粒子射束沉积产生对称沉积的系统。在过去,使用具有非正交入射角的FIB产生沉积,该沉积朝向FIB射束路径生长,从而使得难以产生沉积物的均匀性。利用本发明,即使在使用非正交FIB的情况下也得到对称的沉积。 | ||
搜索关键词: | 创建 对称 fib 沉积 方法 系统 | ||
【主权项】:
一种使用聚焦离子射束形成具有均匀沉积的TEM样本薄片的方法,包括:以大于偏离表面法向30度的角度将聚焦离子射束引导朝向工件表面,带电粒子具有10keV或更小的着陆能量;在所述带电粒子射束的撞击点处提供碳前驱气体,在存在所述离子射束时,所述碳前驱气体分解以将碳沉积到所述工件上;以及将聚焦离子射束引导朝向所述工件上的沉积的材料以将材料从感兴趣的区域的两侧移除,从而保留包含感兴趣区域的薄的薄片,所述沉积的碳在形成期间保护所述薄的薄片。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的