[发明专利]包括自组装嵌段共聚物的膜和通过喷涂涂覆制造该膜的方法(Ic)

摘要

公开了由具有式(I)的自组装二嵌段共聚物形成的膜：其中R1‑R4，n和m如本文所述，其可以用于制备多孔膜。膜的实施方式含有自组装为圆柱形态的二嵌段共聚物。还公开了一种制备这种膜的方法，其包括喷涂涂覆含有二嵌段共聚物的聚合物溶液以获得薄膜，随后在溶剂蒸气中退火该薄膜层和/或在溶剂或溶剂混合物中浸泡以形成纳米多孔膜。

主权项

1.一种制备包括式(I)的二嵌段共聚物的多孔膜的方法：其中：R1是C1‑C22烷基基团，可选地被选自卤素、烷氧基、烷基羰基、烷氧基羰基、酰氨基和硝基的取代基取代，或C3‑C11环烷基基团，可选地被选自烷基、卤素、烷氧基、烷基羰基、烷氧基羰基、酰氨基和硝基的取代基取代；R2是C6‑C20的芳基基团或者杂芳基基团，可选地被选自羟基，氨基，卤素，烷氧基，烷基羰基，烷氧基羰基，酰氨基和硝基的取代基取代；R3和R4之一是C6‑C14芳基基团，可选地被选自羟基，卤素，氨基和硝基的取代基取代，和R3和R4的另一个是C1‑C22烷氧基基团，可选地被选自羧基，氨基，巯基，炔基，烯基，卤素，叠氮基和杂环基的取代基取代；和n和m相对独立的是10至2000；其中，在二嵌段共聚物中含有R2的单体的体积分数与含有R1的单体之比为2.3到5.6：1，所述方法包括：(i)在溶剂体系里溶解所述二嵌段共聚物以获得聚合物溶液；(ii)喷涂涂覆聚合物溶液到基材上；和(iii)在包括溶剂或者溶剂混合物的蒸气里退火(ii)中获得的涂层以获得自组装结构。