[发明专利]自举电路在审

专利信息
申请号: 201510354138.6 申请日: 2015-06-24
公开(公告)号: CN105448909A 公开(公告)日: 2016-03-30
发明(设计)人: 坂井邦崇;前川祐也;原雅人;久保田英幸 申请(专利权)人: 三垦电气株式会社
主分类号: H01L27/06 分类号: H01L27/06;H01L23/64
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 李辉;吕俊刚
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种自举电路,该自举电路包括N沟道MOS晶体管和限流部件,该N沟道MOS晶体管包括:第一N型半导体层,该第一N型半导体层形成在P型半导体基板的一表面上并且电连接至一自举电容器;P型半导体层,该P型半导体层形成在所述第一N型半导体层的一表面上;第二N型半导体层,该第二N型半导体层形成在所述P型半导体层的一表面上;第一电极,该第一电极电连接至所述P型半导体层;第二电极,该第二电极电连接至所述第二N型半导体层;以及电源端子,该电源端子连接至所述第一电极和所述第二电极中的每一个,以向其提供电源电压,所述N沟道MOS晶体管向所述自举电容器供电,该限流部件连接在所述电源端子与所述第一电极之间。
搜索关键词: 电路
【主权项】:
一种自举电路,所述自举电路包括:N沟道MOS晶体管和限流部件,所述N沟道MOS晶体管包括:第一N型半导体层,所述第一N型半导体层形成在P型半导体基板的一表面上并且电连接至一自举电容器;P型半导体层,所述P型半导体层形成在所述第一N型半导体层的一表面上;第二N型半导体层,所述第二N型半导体层形成在所述P型半导体层的一表面上;第一电极,所述第一电极电连接至所述P型半导体层;第二电极,所述第二电极电连接至所述第二N型半导体层;以及电源端子,所述电源端子连接至所述第一电极和所述第二电极中的每一个,以向其提供电源电压,所述N沟道MOS晶体管向所述自举电容器供电,所述限流部件连接在所述电源端子与所述第一电极之间。
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