[发明专利]一种仿天然洞石抛釉砖的生产方法及其获得的砖坯结构有效

专利信息
申请号: 201510354863.3 申请日: 2015-06-24
公开(公告)号: CN105036814B 公开(公告)日: 2017-11-28
发明(设计)人: 丘云灵;金国庭;周燕 申请(专利权)人: 佛山市东鹏陶瓷有限公司;广东东鹏控股股份有限公司;清远纳福娜陶瓷有限公司;丰城市东鹏陶瓷有限公司
主分类号: C04B41/89 分类号: C04B41/89;C04B41/86
代理公司: 佛山市禾才知识产权代理有限公司44379 代理人: 梁永健
地址: 528031 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 一种仿天然洞石抛釉砖的生产方法及其获得的砖坯结构,包括以下步骤A、在成型干燥后的砖坯表面布施底釉;B、布施低温釉在步骤A印花后的砖坯上布施低温釉;C、印花处理在步骤B获得的砖坯进行印花;D、布施透明釉对步骤C获得的砖坯布施透明釉;E、烧制抛光,获得成品。本发明提出一种仿真程度高的仿洞石抛釉砖的生产方法,其色泽丰富多变,洞石效果可控性高。
搜索关键词: 一种 天然 洞石抛釉砖 生产 方法 及其 获得 砖坯 结构
【主权项】:
一种仿天然洞石抛釉砖的生产方法,其特征在于:包括以下步骤:A、在成型干燥后的砖坯表面布施底釉;B、布施低温釉:在步骤A印花后的砖坯上布施低温釉;C、印花处理:在步骤B获得的砖坯进行印花;D、布施透明釉:对步骤C获得的砖坯布施透明釉;E、烧制抛光,获得成品;其中,步骤B中所述低温釉的釉料包括以下组分:30‑40%SiO2、55‑65%PbO、3‑8%Al2O3、1‑3%(Na2O,K2O)和0.2‑1%MgO;所述低温釉的软化点低于850℃;步骤B中低温釉根据砖面定设的印花设计对应其印花的位置进行印刷,或步骤B中低温釉随机印刷于步骤A底釉层上。
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