[发明专利]一种铝硅壳体加工方法有效

专利信息
申请号: 201510356828.5 申请日: 2015-06-25
公开(公告)号: CN104923839B 公开(公告)日: 2018-01-19
发明(设计)人: 赵飞;黄志刚;朱小军 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第四十三研究所
主分类号: B23C3/00 分类号: B23C3/00;B23C5/16
代理公司: 合肥天明专利事务所(普通合伙)34115 代理人: 娄岳,金凯
地址: 230088 安*** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明提供一种铝硅壳体加工方法,包括如下步骤(1)铣外形;(2)铣矩形台阶孔;(3)铣圆形台阶孔;(4)铣内腔。本发明通过使用硬度高、耐磨性好的合金涂层立铣刀,能够长时间保持刀刃锋利,有效避免铝硅复合材料机械加工过程中带来的崩边、裂纹等缺陷;同时,由于加工方式为干切,消除了切削液、冷却液对壳体的污染,有效提高壳体后道涂覆层质量;采用本发明提供的方法进行铝硅壳体加工,效率高、可操作性强,加工出的产品质量一致性好。
搜索关键词: 一种 壳体 加工 方法
【主权项】:
一种铝硅壳体加工方法,其特征在于,所述铝硅壳体中硅含量在22%‑50%之间,包括如下步骤:(1)铣外形:使用φ6或φ8合金涂层立铣刀,转速设定在3500‑4500 RPM范围之内,进给设定在450‑550 mm/min范围之内,对壳体顶面、底面及四周进行铣削,其中壳体左侧铣削出第一凸台,壳体右侧铣削出第二凸台;(2)铣矩形台阶孔:使用φ1.5合金涂层立铣刀,转速设定在5500‑6000 RPM范围之内,进给设定在50‑200 mm/min范围之内,壳体左侧的第一凸台铣削出矩形台阶孔;(3)铣圆形台阶孔:使用同步骤2的刀具及参数对壳体右侧的第二凸台铣削出阵列圆形台阶孔;(4)铣内腔:内腔铣削分为粗铣和精铣两步,先使用φ6合金涂层立铣刀,转速设定在3500‑4500 RPM范围之内,进给设定在450‑550 mm/min范围之内,对内腔进行粗加工;然后使用φ3合金涂层立铣刀,转速设定在4500‑5500 RPM范围之内,进给设定在50‑150 mm/min范围之内,对内腔进行精加工,铝硅壳体加工完成;铣加工方式为干切,切削过程中不使用冷却液和切削液。
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