[发明专利]氨气传感器在审

专利信息
申请号: 201510366623.5 申请日: 2015-06-28
公开(公告)号: CN104977346A 公开(公告)日: 2015-10-14
发明(设计)人: 陆宇 申请(专利权)人: 陆宇
主分类号: G01N27/41 分类号: G01N27/41
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 210039 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及一种氨气传感器,包括上层基片、中层基片和下层基片,上层基片与中层基片之间具有一定空间,空间内形成有相邻的进气区和反应区,进气区和反应区相隔离;上层基片上开设有第一进气口和第二进气口,第一进气口与进气区连通,第二进气口与反应区连通;上层基片上从靠近第二进气口的位置开始依次设有多个第二加热体;中层基片上设有氧泵、第一氧传感器和第二氧传感器,第一氧传感器位于进气区的靠近第一进气口的位置,第二氧传感器位于反应区的远离第二进气口的一端,氧泵位于靠近第二进气口的位置。本发明的氨气传感器,可以精确地得出检测气体中的氨气含量。
搜索关键词: 氨气 传感器
【主权项】:
一种氨气传感器,其特征在于:包括上层基片、中层基片和下层基片,所述上层基片与中层基片之间具有一定空间,所述空间内形成有相邻的进气区和反应区,所述进气区和反应区相隔离;所述上层基片上开设有第一进气口和第二进气口,第一进气口与进气区连通,第二进气口与反应区连通;所述上层基片上从靠近第二进气口的位置开始依次设有多个第二加热体;所述中层基片上设有氧泵、第一氧传感器和第二氧传感器,所述第一氧传感器位于进气区的靠近第一进气口的位置,所述第二氧传感器位于反应区的远离第二进气口的一端,所述氧泵位于靠近第二进气口的位置;所述下层基片上设有第一加热体,所述第一加热体在中层基片上从靠近第一进气口的位置开始一直往靠近第二氧传感器的位置延伸;所述上层基片上从靠近第二进气口的位置开始依次设有三个第二加热体,三个第二加热体从靠近第二进气口的位置一直延伸到靠近第二氧传感器的位置。
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