[发明专利]一种掩膜板及孤立孔寻址图形在测量中的应用方法有效
| 申请号： | 201510367319.2 | 申请日： | 2015-06-29 |
| 公开（公告）号： | CN104915516B | 公开（公告）日： | 2018-02-27 |
| 发明（设计）人： | 王艳云;毛智彪;罗华明;汪武平;陈晓强 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50;H01L21/66 |
| 代理公司： | 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙)31275 | 代理人： | 吴世华,陈慧弘 |
| 地址： | 201210 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种掩膜板及孤立孔寻址图形在测量中的应用方法，通过在掩膜板上制作一系列间距变化、大小变化、样式变化的孤立孔寻址图案以及密集孔寻址参考图案，可建立适合于不同节点、不同尺寸、能够借助在孤立孔图形区域设置优选寻址方式的孤立孔自动测量方法，优化了包括孤立孔自动测量过程中寻址图形距离、样式、大小等工艺条件，以满足孤立孔测量的精确性、稳定性要求，可配合密集孔像散矫正图形，提高测量的清晰度，同时，配合密集孔图形寻址间距、尺寸作为参考，通过比较数据找到孤立孔图形最优测量方式，可在线监控光刻工艺孤立孔尺寸情况，以提高线宽测量扫描电镜自动测量成功率，减少产品因孔洞尺寸测量失真而造成的风险。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 孤立 寻址 图形 设计 及其 测量 中的 应用 | ||
【主权项】：
一种掩膜板，其特征在于，所述掩膜板上包含由一个孤立孔和一个位于孤立孔侧部、用于孤立孔测量寻址的第一寻址图形按照不同的第一寻址图形大小M1～Mx、与孤立孔之间的间距N1～Ny及第一寻址图形样式P1～Pz形成xyz种排列组合形式的孤立孔寻址图案，以及由第一组密集孔和一个位于密集孔侧部的第一寻址图形按照不同的第一寻址图形大小M1～Mx、与孤立孔之间的间距N1～Ny及第一寻址图形样式P1～Pz形成xyz种排列组合形式的密集孔寻址参考图案，所述孤立孔和第一组密集孔的大小为实际版图设计中的最小孔洞尺寸，其中，x、y、z为正整数。
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