[发明专利]用于二维流体动力聚焦的微流道结构和微流体芯片有效
申请号: | 201510367487.1 | 申请日: | 2015-06-29 |
公开(公告)号: | CN105149019B | 公开(公告)日: | 2017-04-19 |
发明(设计)人: | 尤政;赵精晶;李滨 | 申请(专利权)人: | 清华大学 |
主分类号: | B01L3/00 | 分类号: | B01L3/00 |
代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙)11201 | 代理人: | 黄德海 |
地址: | 100084 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种用于二维流体动力聚焦的微流道结构和微流体芯片,微流道结构包括前后连通的第一样本流流道和第二样本流流道、叠设在第一样本流流道顶部和底部的上层纵向聚焦流流道和下层纵向聚焦流流道、设在第二样本流流道左侧和右侧的左侧横向聚焦流道和右侧横向聚焦流道,上层纵向聚焦流流道的后端和下层纵向聚焦流流道的后端均与第一样本流流道连通,左侧横向聚焦流道的后端和右侧横向聚焦流道的后端均与第二样本流流道连通。根据本发明的用于二维流体动力聚焦的微流道结构,具有二维聚焦功能,对聚焦效果可控,兼具流动阻力低、适用于宽流速范围等优点。 | ||
搜索关键词: | 用于 二维 流体 动力 聚焦 微流道 结构 芯片 | ||
【主权项】:
一种用于二维流体动力聚焦的微流道结构,其特征在于,包括:样本流流道,所述样本流流道包括在前后方向上连通的第一样本流流道和第二样本流流道;上层纵向聚焦流流道,所述上层纵向聚焦流流道叠设在所述第一样本流流道的顶部,且所述上层纵向聚焦流流道的后端与所述第一样本流流道连通;下层纵向聚焦流流道,所述下层纵向聚焦流流道叠设在所述第一样本流流道的底部,且所述下层纵向聚焦流流道的后端与所述第一样本流流道连通;左侧横向聚焦流流道,所述左侧横向聚焦流流道设在所述第二样本流流道的左侧,且所述左侧横向聚焦流流道的后端与所述第二样本流流道连通;以及右侧横向聚焦流流道,所述右侧横向聚焦流流道设在所述第二样本流流道的右侧,且所述右侧横向聚焦流流道的后端与所述第二样本流流道连通,所述第一样本流流道在前后方向上沿直线延伸,所述上层纵向聚焦流流道和/或所述下层纵向聚焦流流道包括:直线流道部,所述直线流道部与所述第一样本流流道在上下方向上对齐布置;左侧弧线流道部,所述左侧弧线流道部设在所述直线流道部的左前侧,且所述左侧弧线流道部的后端与所述直线流道部相切且连通;右侧弧线流道部,所述右侧弧线流道部设在所述直线流道部的右前侧,且所述右侧弧线流道部的后端与所述直线流道部相切且连通。
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