[发明专利]构件表面抛光系统和方法在审
| 申请号： | 201510372974.7 | 申请日： | 2015-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN105215793A | 公开（公告）日： | 2016-01-06 |
| 发明（设计）人： | 崔岩;S.C.科蒂林加姆;B.L.托利森;林德超;D.E.施克 | 申请（专利权）人： | 通用电气公司 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 李强;谭祐祥 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及构件表面抛光系统和方法。一种用于对构件抛光的方法包括：提供构件，该构件包括在流体方面连接到一个或多个外表面上的一个或多个内表面；提供多个磁性颗粒；以及应用磁场，以便使磁性颗粒抵靠着构件的内表面和外表面重复地移动。 | ||
| 搜索关键词： | 构件 表面 抛光 系统 方法 | ||
【主权项】：
一种用于对构件抛光的方法，所述方法包括：提供所述构件，所述构件包括在流体方面连接到一个或多个外表面上的一个或多个内表面；提供多个磁性颗粒；以及，应用磁场，以便使所述磁性颗粒抵靠着所述构件的所述内表面和所述外表面重复地移动。
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