[发明专利]硅基低漏电流固支梁栅MOS管交叉耦合振荡器及制备方法有效

专利信息
申请号: 201510379030.2 申请日: 2015-07-01
公开(公告)号: CN105162419B 公开(公告)日: 2017-11-17
发明(设计)人: 廖小平;王小虎 申请(专利权)人: 东南大学
主分类号: H03B5/12 分类号: H03B5/12
代理公司: 南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙)32249 代理人: 杨晓玲
地址: 211189 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明是一种硅基低漏电流固支梁栅MOS管交叉耦合振荡器及制备方法,用具有固支梁栅的MOS管代替传统的MOS管。固支梁栅MOS管交叉耦合振荡器由交叉耦合的固支梁栅NMOS管,谐振LC回路和恒流源构成。该交叉耦合振荡器中的固支梁栅NMOS管是制作在P型Si衬底上,该固支梁栅MOS管的栅极是悬浮在栅氧化层上方的,形成固支梁栅,固支梁栅下方设计有下拉电极板,下拉电极板接地,固支梁栅的锚区用多晶硅制作在栅氧化层上,该交叉耦合振荡器中的固支梁栅MOS管关断时,固支梁栅是悬浮的,栅极氧化层中的场强比较小,因此该振荡器在工作时的栅极漏电流大大减小,从而使得该硅基固支梁栅MOS管交叉耦合振荡器的功耗得到有效的降低。
搜索关键词: 硅基低 漏电 流固支梁栅 mos 交叉 耦合 振荡器 制备 方法
【主权项】:
一种硅基低漏电流固支梁栅MOS管交叉耦合振荡器,其特征在于该振荡器由第一固支梁栅NMOS管(1)、第二固支梁栅NMOS管(2)、LC谐振回路和恒流源(11)组成,该交叉耦合振荡器中的第一固支梁栅NMOS管(1)、第二固支梁栅NMOS管(2)制作在P型Si衬底(3)上,其栅极依靠锚区(7)的支撑悬浮在栅氧化层(5)上方形成固支梁栅(6),固支梁栅(6)的两个锚区(7)用多晶硅制作在栅氧化层(5)上,固支梁栅(6)下方设计有下拉电极板(8),下拉电极板(8)接地,第一固支梁栅NMOS管(1)和第二固支梁栅NMOS管(2)的N+有源区源极(13)通过通孔(9)与引线(10)连在一起并与恒流源(11)相连,恒流源(11)另一端接地,第一固支梁栅NMOS管(1)的N+有源区漏极(12)通过锚区(7)、通孔(9)和引线(10)与第二固支梁栅NMOS管(2)的固支梁栅(6)连接,第二固支梁栅NMOS管(2)的N+有源区漏极(12)通过锚区(7)、通孔(9)和引线(10)与第一固支梁栅NMOS管(1)的固支梁栅(6)连接,从而形成交叉耦合结构,LC谐振回路接在第一固支梁栅NMOS管(1)、第二固支梁栅NMOS管(2)的N+有源区漏极(12)之间;通过设计使第一固支梁栅NMOS管(1)和第二固支梁栅NMOS管(2)的阈值电压相等,并使固支梁栅(6)的下拉电压与第一固支梁栅NMOS管(1)和第二固支梁栅NMOS管(2)的阈值电压相等,在固支梁栅(6)和下拉电极板(8)之间的电压小于阈值电压,固支梁栅(6)是悬浮在栅氧化层(5)上方,此时的栅极电容较小;硅基固支梁栅MOS管交叉耦合振荡器产生稳定振荡后,第一固支梁栅NMOS管(1)和第二固支梁栅NMOS管(2)交替导通与截止,当固支梁栅MOS管截止时,固支梁栅(6)是悬浮的,栅氧化层(5)中的场强比较小,栅极漏电流很小。
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