[发明专利]氮化镓基低漏电流悬臂梁的与非门有效

专利信息
申请号: 201510380064.3 申请日: 2015-07-01
公开(公告)号: CN105140227B 公开(公告)日: 2017-12-05
发明(设计)人: 廖小平;褚晨蕾 申请(专利权)人: 东南大学
主分类号: H01L29/84 分类号: H01L29/84;H01L21/336;B81B7/02
代理公司: 南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙)32249 代理人: 杨晓玲
地址: 211189 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明的氮化镓基低漏电流悬臂梁的与非门制作在半绝缘型GaN衬底(1)上,由两个N型沟道MESFET(11)和电阻R顺序串联所构成,该N型沟道MESFET(11)包括源极、漏极、栅极和沟道,这两个N沟道MESFET(11)具有悬浮的悬臂梁(4),该悬臂梁(4)的一端固定在锚区(2)上,另一端横跨在栅极(10)上方且与栅极(10)之间有一间隙,偏置信号连接到悬臂梁(4)上,悬臂梁(4)由Au材料制作的,在悬臂梁(4)下方设有两个下拉电极(5),下拉电极(5)是接地的,其上还覆盖有氮化硅介质层(6),这种结构可以大大减小栅极泄漏电流,从而降低器件的功耗。
搜索关键词: 氮化 镓基低 漏电 悬臂梁 与非门
【主权项】:
一种氮化镓基低漏电流悬臂梁的与非门,其特征在于该与非门制作在半绝缘型GaN衬底(1)上,由两个N型沟道MESFET(11)和电阻R顺序串联所构成,该N型沟道MESFET(11)包括源极、漏极、栅极和沟道,这两个N沟道MESFET(11)具有悬浮的悬臂梁(4),该悬臂梁(4)的一端固定在锚区(2)上,另一端横跨在栅极(10)上方且与栅极(10)之间有一间隙,偏置信号连接到悬臂梁(4)上,悬臂梁(4)由Au材料制作的,在悬臂梁(4)下方设有两个下拉电极(5),下拉电极(5)是接地的,其上还覆盖有氮化硅介质层(6),这种结构可以大大减小栅极泄漏电流,从而降低器件的功耗。
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