[发明专利]一种磷化铟单晶的生长方法及生长装置有效
申请号: | 201510381030.6 | 申请日: | 2015-07-01 |
公开(公告)号: | CN104911690B | 公开(公告)日: | 2017-09-19 |
发明(设计)人: | 狄聚青;朱刘;胡丹 | 申请(专利权)人: | 清远先导材料有限公司 |
主分类号: | C30B11/00 | 分类号: | C30B11/00;C30B29/40 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司11227 | 代理人: | 赵青朵 |
地址: | 511517 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明提供了一种磷化铟单晶的生长方法,包括以下步骤采用垂直梯度凝固法,将磷化铟籽晶、磷化铟多晶、三氧化二硼和红磷进行加热,进行晶体生长,得到磷化铟单晶;所述红磷占磷化铟多晶、三氧化二硼和红磷三者总质量的0.05~0.1%。本发明提供的生长方法无需添加铁或硫等掺杂剂,即可得到位错密度较低的磷化铟单晶,简化了工艺,节约了成本,并且,本发明中红磷的用量较小,仅为现有技术中红磷用量的十分之一,降低了生产中的危险性。试验结果表明,本发明提供的生长方法得到的磷化铟单晶的平均位错密度为2000~4000/cm2,局部位错密度在500/cm2以下。本发明还提供了一种磷化铟单晶的生长装置。 | ||
搜索关键词: | 一种 磷化 铟单晶 生长 方法 装置 | ||
【主权项】:
一种磷化铟单晶的生长方法,包括以下步骤:采用垂直梯度凝固法,将磷化铟籽晶、磷化铟多晶、三氧化二硼和红磷进行加热,进行晶体生长,得到磷化铟单晶;所述红磷占磷化铟多晶、三氧化二硼和红磷三者总质量的0.05~0.1%;所述加热过程具体包括以下步骤:以第一温度进行加热1~12小时,然后以第一速率降温至第二温度,再以第二速率降温至第三温度,得到磷化铟单晶;所述第一温度为1100~1230℃;所述第二温度为900~1000℃;所述第三温度为20~35℃;所述第一速率为0.5~2℃/小时;所述第二速率为3~15℃/小时。
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