[发明专利]一种基于金属微纳结构天线阵列的反射式离轴透镜有效

专利信息
申请号: 201510385971.7 申请日: 2015-06-30
公开(公告)号: CN104932043B 公开(公告)日: 2017-01-11
发明(设计)人: 刘国根;郑国兴;何平安;李子乐;李松;高俊玲;杨晋陵;张霜 申请(专利权)人: 武汉大学
主分类号: G02B3/00 分类号: G02B3/00
代理公司: 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙)42222 代理人: 赵丽影
地址: 430072 湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明提供一种基于金属微纳结构天线阵列的反射式离轴透镜,包括衬底层、反射层、光学薄膜匹配层和金属微纳结构天线层。每一个金属微纳结构天线的朝向均不同,通过特定排布,可实现将平行入射的激光反射汇聚在与入射光束同侧的任意方向上,可应用于激光离轴光学系统中。由金属微纳结构天线阵列构造的反射式离轴透镜,不仅可连续调制入射光的位相,且仅需简单的一次光刻工艺步骤即可制造完成,因此具有设计灵活、加工简单、结构紧凑等突出优点。
搜索关键词: 一种 基于 金属 结构 天线 阵列 反射 式离轴 透镜
【主权项】:
一种基于金属微纳结构天线阵列的反射式离轴透镜,其特征在于:所述离轴透镜包括有四层结构,由下至上依次为衬底层、反射层、光学薄膜匹配层、金属微纳结构天线层;所述的金属微纳结构天线层包括由多个金属微纳结构天线构成的阵列;在金属微纳结构天线层上建立xoy坐标系,位于坐标(xi,yi)处金属微纳结构天线的长边方向代表长轴,短边方向代表短轴,长轴与x轴的夹角θ(xi,yi)用于调节该点的位相,且满足:θ(xi,yi)=πλ.mod((xi-x0)2+(yi-y0)2+z02-x02+y02+z02,λ)]]>其中,λ为工作波长,离轴透镜聚焦点的坐标为(x0,y0,z0),其由离轴透镜使用要求指定。
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