[发明专利]显示基板及其制造方法、显示装置有效

专利信息
申请号: 201510386105.X 申请日: 2015-06-30
公开(公告)号: CN104932145B 公开(公告)日: 2017-09-22
发明(设计)人: 冯京 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G02F1/13357 分类号: G02F1/13357;G02F1/1335;G02F1/1343
代理公司: 北京三高永信知识产权代理有限责任公司11138 代理人: 吕耀萍
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开一种显示基板及其制造方法、显示装置,属于显示技术领域。显示基板包括衬底基板;衬底基板上形成有像素单元,像素单元包括显色结构、设置在显色结构四周的第一反光结构、设置在显色结构的侧面且位于第一反光结构远离显色结构一侧的阻隔结构、设置在阻隔结构上的反光层。反光层上形成有透光区域和第二反光结构,透光区域在衬底基板上的正投影落在第一反光结构在衬底基板上的正投影内,显色结构在衬底基板上的正投影落在第二反光结构在衬底基板上的正投影内。由显色结构、第一反光结构、阻隔结构和反光层围成空腔。本发明无需液晶和偏光片,避免液晶和偏光片对光线的吸收,达到减少光的亮度损失和节能的效果。
搜索关键词: 显示 及其 制造 方法 显示装置
【主权项】:
一种显示基板,其特征在于,所述显示基板包括:衬底基板;所述衬底基板的显示区域上形成有至少一个像素单元;每个所述像素单元包括:显色结构、设置在所述显色结构四周的第一反光结构、设置在所述显色结构的至少两个相对的侧面且位于所述第一反光结构远离所述显色结构的一侧的阻隔结构,以及设置在所述阻隔结构上的反光层;所述反光层上对应每个所述像素单元形成有至少一个透光区域和第二反光结构,所述透光区域在所述衬底基板上的正投影落在所述第一反光结构在所述衬底基板上的正投影内,所述显色结构在所述衬底基板上的正投影落在所述第二反光结构在所述衬底基板上的正投影内;其中,在每个所述像素单元中,由所述显色结构、所述第一反光结构、所述阻隔结构和所述反光层围成空腔。
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