[发明专利]用于处理基板的设备及方法

摘要

本发明构思的实施例提供了一种用于处理基板的设备及方法。所述设备包括：基板支撑单元，所述基板支撑单元用于支撑基板；以及液体供应单元，所述液体供应单元将处理液供应到基板支撑单元所支撑的基板上。所述液体供应单元包括：将处理液排放到基板上的喷嘴；将处理液供应到喷嘴的液体供应管线；安装在液体供应管线上的混合构件；在混合构件内形成的混合空间；以及连接到混合构件以将气体供应到混合空间的气体供应管线。所述混合构件包括：壳体，所述壳体在其内部形成有混合空间；以及流入孔，所述流入孔与壳体相通以使通过所述流入孔供应的气体在混合空间内与处理液混合以形成纳米级气泡。这样，这些气泡可被提供到各个图案之间的纳米级空间内。

主权项

一种用于处理基板的设备，其特征在于，所述设备包括：基板支撑单元，所述基板支撑单元支撑基板；以及液体供应单元，所述液体供应单元将处理液供应到所述基板支撑单元所支撑的基板上，其中，所述液体供应单元包括：将所述处理液排放到基板上表面的喷嘴；将所述处理液供应到所述喷嘴的液体供应管线；安装在所述液体供应管线上的混合构件，所述混合构件在其内部形成有混合空间；以及连接到所述混合构件以将气体供应到所述混合空间的气体供应管线，其中，所述混合构件包括：壳体，所述壳体在其内部形成有所述混合空间；和流入孔，所述流入孔与所述壳体相通以使通过所述流入孔供应的气体在所述混合空间内与所述处理液混合以形成纳米级气泡。