[发明专利]自动监控膜厚均匀性的方法

摘要

本发明公开一种自动监控膜厚均匀性的方法。取得多个晶片的薄膜的膜厚数据，其中各晶片的膜厚数据包括在多个量测区域上的多个厚度值，并且同一个晶片的厚度值设定为一膜厚向量。基于各量测区域所获得的上述厚度值获得群均值矩阵。依据群均值矩阵与上述膜厚向量，获得群共变异矩阵。基于量测区域之间的偏离关系，获得变换矩阵。利用变换矩阵、群均值矩阵以及群共变异矩阵，获得偏差范围。基于偏差范围来监控各晶片的薄膜的膜厚均匀性。

主权项

1.一种自动监控膜厚均匀性的方法，包括：取得多个晶片的薄膜的膜厚数据，其中该膜厚数据包括每一上述晶片在多个量测区域上的多个厚度值，其中将属于同一上述晶片的上述厚度值设定为一膜厚向量；分别取出属于相同的上述量测区域中的上述厚度值进行平均计算，而获得一群均值矩阵；依据该群均值矩阵与上述膜厚向量，获得一群共变异矩阵；基于两两相近的上述量测区域之间的偏离关系，获得一变换矩阵；利用该变换矩阵、该群均值矩阵以及该群共变异矩阵，获得一偏差范围；基于该偏差范围来监控每一上述晶片的薄膜的膜厚均匀性，其中上述量测区域为同心圆环状，且在每一上述晶片自一外圈位置开始往一中心位置靠近依序包括：一第一圈、一第二圈以及一第三圈；而基于两两相近的上述量测区域之间的偏离关系，获得该变换矩阵的步骤包括：依据该第一圈与该第二圈之间一第一薄膜的一第一偏离角度，获得该第一圈与该第二圈之间的第一偏离关系；依据该第二圈与该第三圈之间一第二薄膜的一第二偏离角度，获得该第二圈与该第三圈之间的第二偏离关系；依据该第一偏离角度与该第二偏离角度，获得该第一薄膜与该第二薄膜之间的一偏离度关系；以及基于该偏离度关系、该第一偏离关系与该第二偏离关系，获得用以求出该第一薄膜与该第二薄膜之间一第三偏离角度的该第一圈、该第二圈与该第三圈三者的膜厚系数，而以该膜厚系数来作为该变换矩阵。