[发明专利]半导体装置及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201510393301.X 申请日: 2015-07-07
公开(公告)号: CN106340519B 公开(公告)日: 2019-11-29
发明(设计)人: 洪钰珉;韩宗廷;徐妙枝 申请(专利权)人: 旺宏电子股份有限公司
主分类号: H01L27/11509 分类号: H01L27/11509
代理公司: 11021 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 任岩<国际申请>=<国际公布>=<进入国
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 中国台湾;TW
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摘要: 发明公开了一种半导体装置及其制造方法。方法可包括以自对准四重图案化步骤图案化阵列和周边区、并提供以此结合的图案化步骤制作而成的半导体装置。
搜索关键词: 半导体 装置 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种半导体装置,包括:/n一基板;/n二相邻字线,形成于该基板上;/n一第一字线垫,与该二相邻字线其中之一连接且形成于该基板上;/n一第二字线垫,与该二相邻字线其中之另一连接且形成于该基板上;/n其中该第一字线垫于垂直该二相邻字线的方向上是该第二字线垫的一镜像,该第一字线垫包括一第一垫宽及一第二垫宽,该第一垫宽与一字线相邻,该第二垫宽相对于该字线,该第一垫宽不等同于该第二垫宽;以及/n一间距位于该第一字线垫和该第二字线垫之间,该间距包括一第一间距宽度,该第一间距宽度是以a表示;该第一垫宽小于该第二垫宽0.05至1.5倍的该第一间距宽度a;该第二垫宽靠近该第一垫宽的边长是具有一与侧边形成非90度角度的边长。/n
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