[发明专利]晶体硅太阳电池及其制备方法有效
申请号: | 201510394993.X | 申请日: | 2015-07-07 |
公开(公告)号: | CN104966744B | 公开(公告)日: | 2017-06-16 |
发明(设计)人: | 卞剑涛;祝方舟;刘正新 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
主分类号: | H01L31/0224 | 分类号: | H01L31/0224;H01L31/0216;H01L31/0236;H01L31/18 |
代理公司: | 上海光华专利事务所31219 | 代理人: | 余明伟 |
地址: | 200050 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供了一种高效晶体硅太阳电池及其制备方法,该太阳电池结构相比于传统结构,在倒金字塔结构表面还具有微绒结构,该结构可进一步减少光反射,提高器件的光谱响应。该技术适用于p型和n型太阳电池,采用离子注入实现p+层和n+层的掺杂制备,通过对重掺杂层的选择性腐蚀得到p+层或n+层上表面的微绒结构。本发明技术有利于晶体硅太阳电池性能的提高。 | ||
搜索关键词: | 晶体 太阳电池 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种晶体硅太阳电池的制备方法,其特征在于,至少包括以下步骤:步骤一,提供一具有上下表面的p型晶体硅基底,在所述的晶体硅基底上下表面制备倒金字塔结构;步骤二,在所述制备了倒金字塔结构的p型晶体硅基底的上表面采用离子注入方法制备n+发射极层;步骤三,在所述n+发射极层表面采用p+层选择性单面化学腐蚀方法形成微绒结构;步骤四,在具有微绒结构的n+发射极层表面制备前表面钝化层;步骤五,接着丝网印刷制备发射极金属电极和基极金属电极;步骤六,电极退火制备p+基极层,并实现电极欧姆接触。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
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H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的