[发明专利]晶体硅太阳电池及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201510394993.X 申请日: 2015-07-07
公开(公告)号: CN104966744B 公开(公告)日: 2017-06-16
发明(设计)人: 卞剑涛;祝方舟;刘正新 申请(专利权)人: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
主分类号: H01L31/0224 分类号: H01L31/0224;H01L31/0216;H01L31/0236;H01L31/18
代理公司: 上海光华专利事务所31219 代理人: 余明伟
地址: 200050 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供了一种高效晶体硅太阳电池及其制备方法,该太阳电池结构相比于传统结构,在倒金字塔结构表面还具有微绒结构,该结构可进一步减少光反射,提高器件的光谱响应。该技术适用于p型和n型太阳电池,采用离子注入实现p+层和n+层的掺杂制备,通过对重掺杂层的选择性腐蚀得到p+层或n+层上表面的微绒结构。本发明技术有利于晶体硅太阳电池性能的提高。
搜索关键词: 晶体 太阳电池 及其 制备 方法
【主权项】:
一种晶体硅太阳电池的制备方法,其特征在于,至少包括以下步骤:步骤一,提供一具有上下表面的p型晶体硅基底,在所述的晶体硅基底上下表面制备倒金字塔结构;步骤二,在所述制备了倒金字塔结构的p型晶体硅基底的上表面采用离子注入方法制备n+发射极层;步骤三,在所述n+发射极层表面采用p+层选择性单面化学腐蚀方法形成微绒结构;步骤四,在具有微绒结构的n+发射极层表面制备前表面钝化层;步骤五,接着丝网印刷制备发射极金属电极和基极金属电极;步骤六,电极退火制备p+基极层,并实现电极欧姆接触。
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