[发明专利]T形栅结构的光刻方法有效
| 申请号： | 201510395350.7 | 申请日： | 2015-07-07 |
| 公开（公告）号： | CN104950596A | 公开（公告）日： | 2015-09-30 |
| 发明（设计）人： | 徐勇 | 申请（专利权）人： | 成都嘉石科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 成都华风专利事务所(普通合伙) 51223 | 代理人： | 胡川 |
| 地址： | 610000 四川省成都市*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种T形栅结构的光刻方法。其包括：在晶圆的衬底表面涂布投影式光刻胶，并进行烘烤后得到栅脚层；对栅脚层进行投影式光刻、烘烤和显影后形成栅脚凹槽；在栅脚层表面涂布非感光材料，并进行烘烤后得到隔离层，栅脚凹槽边缘处的隔离层与栅脚层在烘烤时发生反应形成耐显影物质薄层；对隔离层进行显影后在栅脚凹槽中形成栅脚结构，其中，耐显影物质薄层在显影时保留；在隔离层上再次涂布投影式光刻胶，并进行烘烤后得到栅帽层；对栅帽层进行投影式光刻、烘烤和显影后在栅帽层上形成栅帽凹槽，其中，栅帽凹槽的侧壁垂直于衬底表面；对栅帽层进行烘烤，使栅帽凹槽的侧壁与衬底表面形成夹角。本发明能够大幅提高化合物半导体的产能。 | ||
| 搜索关键词： | 结构 光刻 方法 | ||
【主权项】：
一种T形栅结构的光刻方法，其特征在于，包括：在晶圆的衬底表面涂布投影式光刻胶，并进行烘烤后得到栅脚层；对所述栅脚层进行投影式光刻、烘烤和显影后在所述栅脚层上形成栅脚凹槽，所述衬底表面露出在所述栅脚凹槽中；在所述栅脚层表面以及所述栅脚凹槽表面涂布非感光材料，并进行烘烤后得到隔离层，其中，所述栅脚凹槽边缘处的隔离层与所述栅脚层在烘烤时发生反应形成耐显影物质薄层；对所述隔离层进行显影后在所述栅脚凹槽中形成露出所述衬底表面的栅脚结构，其中，所述耐显影物质薄层在显影时保留；在所述隔离层上再次涂布所述投影式光刻胶，并进行烘烤后得到栅帽层；对所述栅帽层进行投影式光刻、烘烤和显影后在所述栅帽层上形成栅帽凹槽，其中，所述栅帽凹槽的侧壁垂直于所述衬底表面；对所述栅帽层进行烘烤，使所述栅帽凹槽的侧壁与所述衬底表面形成夹角，从而得到栅帽结构。
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