[发明专利]用于成像的聚合物薄膜及其制备方法有效
申请号: | 201510397220.7 | 申请日: | 2015-07-08 |
公开(公告)号: | CN106324725B | 公开(公告)日: | 2019-09-06 |
发明(设计)人: | 张健 | 申请(专利权)人: | 昇印光电(昆山)股份有限公司 |
主分类号: | G02B3/00 | 分类号: | G02B3/00 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 党晓林 |
地址: | 215316 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本申请实施例公开了一种用于成像的聚合物薄膜及其制备方法。该聚合物薄膜包括含有相背对的第一表面和第二表面的一种聚合物;所述第一表面形成有微透镜结构;所述第二表面形成有容纳结构,所述容纳结构用于形成通过所述微透镜结构成像的图文结构;所述微透镜结构和所述容纳结构成一体结构。该聚合物薄膜的厚度比较薄,在烫印时易于切断,有利于转印。 | ||
搜索关键词: | 聚合物薄膜 微透镜结构 容纳结构 成像 第二表面 第一表面 制备 厚度比较 图文结构 一体结构 聚合物 烫印 相背 转印 申请 | ||
【主权项】:
1.一种用于成像的聚合物薄膜,其特征在于,包括:具有第一表面的第一聚合物和具有第二表面的第二聚合物,所述第一表面和所述第二表面相背对;所述第一表面形成有微透镜结构;所述第二表面形成有容纳结构,所述容纳结构用于形成通过所述微透镜结构成像的图文结构;所述第一聚合物和所述第二聚合物之间的相邻部位形成有融合部分,以使所述微透镜结构和容纳结构成一体结构。
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