[发明专利]研磨垫固定装置及化学机械研磨装置在审
申请号: | 201510397311.0 | 申请日: | 2015-07-07 |
公开(公告)号: | CN105058225A | 公开(公告)日: | 2015-11-18 |
发明(设计)人: | 余俊磊 | 申请(专利权)人: | 武汉新芯集成电路制造有限公司 |
主分类号: | B24B37/11 | 分类号: | B24B37/11 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 430205 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明提供了一种研磨垫固定装置和化学机械研磨装置,所述研磨垫固定装置包括与研磨平台连接的真空系统以及真空吸附于研磨平台上的基板,所述研磨垫固定于基板上。本发明的研磨垫固定装置通过设置与真空系统连接的研磨平台,使得研磨平台的上表面形成为真空吸附面,同时又通过真空吸附于研磨平台上的基板将研磨垫固定于研磨平台上,如此,一方面更换研磨垫时,只需整体将所述基板和研磨垫从研磨平台上拆下便可而无需破坏研磨垫,保证了研磨垫的使用寿命,另一方面固定研磨垫时,可以防止研磨垫因固定不当而发生变形,确保了研磨精度。 | ||
搜索关键词: | 研磨 固定 装置 化学 机械 | ||
【主权项】:
一种研磨垫固定装置,包括用于承载研磨垫的研磨平台,其特征在于,还包括与所述研磨平台连接的真空系统以及真空吸附于所述研磨平台上的基板,所述研磨垫固定于所述基板上。
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