[发明专利]硅控整流器与静电放电箝制电路有效

专利信息
申请号: 201510400312.6 申请日: 2015-07-09
公开(公告)号: CN106340515B 公开(公告)日: 2018-08-28
发明(设计)人: 张俊彦;颜祥修;张邵勤;江哲维 申请(专利权)人: 张俊彦;颜祥修;奇景光电股份有限公司
主分类号: H01L27/082 分类号: H01L27/082;H01L29/744;H01L29/06;H01L27/02
代理公司: 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 代理人: 寿宁;张华辉
地址: 中国台湾*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明是关于一种硅控整流器与静电放电箝制电路,其中该硅控整流器包含分离的第一型场、第二型第一场及第二型第二场,形成于第一型井内;连续第一型掺杂区,形成于第一型场内;分段第二型掺杂区,形成于第二型第一场内;及分段第一型掺杂区,形成于第二型第二场内。本发明的一种硅控整流器的新颖架构,其具增强的保持电压。本发明提出另一种多晶硅电阻触发的堆叠硅控整流器,其不会增加触发电压。
搜索关键词: 整流器 静电 放电 箝制 电路
【主权项】:
1.一种硅控整流器,其特征在于包含:第一型场、第二型第一场及第二型第二场形成于第一型井内,其中该第一型场、该第二型第一场及该第二型第二场彼此分离;连续第一型掺杂区,形成于该第一型场内;分段第二型掺杂区,形成于该第二型第一场内;及分段第一型掺杂区,形成于该第二型第二场内;其中该连续第一型掺杂区的离子剂量大于该第一型场的离子剂量,其再大于该第一型井的离子剂量;该分段第二型掺杂区的离子剂量大于该第二型第一场的离子剂量,其再大于该第一型井的离子剂量;且该分段第一型掺杂区的离子剂量大于该第二型第二场的离子剂量,其再大于该第一型井的离子剂量;其中该连续第一型掺杂区由单一掺杂次区所组成,该分段第二型掺杂区由多个彼此分离的掺杂次区所组成,且该分段第一型掺杂区由多个彼此分离的掺杂次区所组成。
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