[发明专利]硅控整流器与静电放电箝制电路有效
申请号: | 201510400312.6 | 申请日: | 2015-07-09 |
公开(公告)号: | CN106340515B | 公开(公告)日: | 2018-08-28 |
发明(设计)人: | 张俊彦;颜祥修;张邵勤;江哲维 | 申请(专利权)人: | 张俊彦;颜祥修;奇景光电股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/082 | 分类号: | H01L27/082;H01L29/744;H01L29/06;H01L27/02 |
代理公司: | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 | 代理人: | 寿宁;张华辉 |
地址: | 中国台湾*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明是关于一种硅控整流器与静电放电箝制电路,其中该硅控整流器包含分离的第一型场、第二型第一场及第二型第二场,形成于第一型井内;连续第一型掺杂区,形成于第一型场内;分段第二型掺杂区,形成于第二型第一场内;及分段第一型掺杂区,形成于第二型第二场内。本发明的一种硅控整流器的新颖架构,其具增强的保持电压。本发明提出另一种多晶硅电阻触发的堆叠硅控整流器,其不会增加触发电压。 | ||
搜索关键词: | 整流器 静电 放电 箝制 电路 | ||
【主权项】:
1.一种硅控整流器,其特征在于包含:第一型场、第二型第一场及第二型第二场形成于第一型井内,其中该第一型场、该第二型第一场及该第二型第二场彼此分离;连续第一型掺杂区,形成于该第一型场内;分段第二型掺杂区,形成于该第二型第一场内;及分段第一型掺杂区,形成于该第二型第二场内;其中该连续第一型掺杂区的离子剂量大于该第一型场的离子剂量,其再大于该第一型井的离子剂量;该分段第二型掺杂区的离子剂量大于该第二型第一场的离子剂量,其再大于该第一型井的离子剂量;且该分段第一型掺杂区的离子剂量大于该第二型第二场的离子剂量,其再大于该第一型井的离子剂量;其中该连续第一型掺杂区由单一掺杂次区所组成,该分段第二型掺杂区由多个彼此分离的掺杂次区所组成,且该分段第一型掺杂区由多个彼此分离的掺杂次区所组成。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
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