[发明专利]滑动部件、处理盒、以及成像装置有效
| 申请号： | 201510400891.4 | 申请日： | 2015-07-09 |
| 公开（公告）号： | CN105739272B | 公开（公告）日： | 2018-09-28 |
| 发明（设计）人： | 中村优;太野大介;小野雅人;田中大辅;濑古真路 | 申请（专利权）人： | 富士施乐株式会社 |
| 主分类号： | G03G21/00 | 分类号： | G03G21/00;G03G21/18 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 常海涛;高钊 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种滑动部件，包括：基材，该基材包括与被滑动部件接触的接触区域，其中，自所述接触区域的表面起的所述接触区域的厚度中的杨氏模量E1为10MPa至200,000MPa，并且所述接触区域的厚度T为10nm至500nm。本发明还提供了具有该滑动部件的处理盒和成像装置。本发明的滑动部件能够防止接触区域中发生碎裂。 | ||
| 搜索关键词： | 滑动 部件 处理 以及 成像 装置 | ||
【主权项】：
1.一种滑动部件，包括：基材，其包括与被滑动部件接触的接触区域，其中，自所述接触区域的表面起的所述接触区域的厚度中的杨氏模量E1为10MPa至200,000MPa，并且所述接触区域的厚度T为10nm至500nm，其中在自所述接触区域的表面起的距离超过所述接触区域的厚度的位置处所述基材的杨氏模量E2为1MPa至500MPa，并且所述杨氏模量E1和所述杨氏模量E2满足关系式E2＜E1。
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