[发明专利]化工设备清洁处理剂在审
| 申请号： | 201510402338.4 | 申请日： | 2015-07-08 |
| 公开（公告）号： | CN105018240A | 公开（公告）日： | 2015-11-04 |
| 发明（设计）人： | 姚雳 | 申请（专利权）人： | 姚雳 |
| 主分类号： | C11D1/22 | 分类号： | C11D1/22;C11D3/60;C11D3/16;C11D3/38;C11D3/20;C11D3/44;C11D3/37 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 311800 浙江省绍*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种化工设备清洁处理剂，按质量份数计由以下成分组成：10～20份五氟丙烷，20～30份异丙基苯磺酸钠，20～30份硅氧烷，10～20份正溴丙烷，60～70份生化黄腐酸，30～40份二甲基硅氧烷，30～40份邻苯二甲酯，10～20份四氯化碳，10～20份聚乙烯蜡,100～200份去离子水。本发明产品适用于化工设备的清洗清洁处理，清洗清洁处理后表面有光泽不发乌，对化工设备的表面无侵蚀作用；该清洁处理清洗剂去脂能力强，清洗效果好；无毒、不易燃；使用简单方便，减少污染，降低清洗成本。 | ||
| 搜索关键词： | 化工设备 清洁 处理 | ||
【主权项】：
一种化工设备清洁处理剂，其特征在于：按质量份数计由以下成分组成：10～20份五氟丙烷，20～30份异丙基苯磺酸钠，20～30份硅氧烷，10～20份正溴丙烷，60～70份生化黄腐酸，30～40份二甲基硅氧烷，30～40份邻苯二甲酯，10～20份四氯化碳，10～20份聚乙烯蜡,100～200份去离子水。
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