[发明专利]聚合物、有机层组合物、有机层以及形成图案的方法有效
申请号: | 201510409508.1 | 申请日: | 2015-07-13 |
公开(公告)号: | CN106188504B | 公开(公告)日: | 2019-11-19 |
发明(设计)人: | 南沇希;金昇炫;权孝英;金瑆焕;南宫烂;文秀贤;豆米尼阿·拉特维;宋炫知;郑铉日;许柳美 | 申请(专利权)人: | 三星SDI株式会社 |
主分类号: | C08G61/12 | 分类号: | C08G61/12;C08G65/00;G03F7/09;G03F7/00 |
代理公司: | 11205 北京同立钧成知识产权代理有限公司 | 代理人: | 陶敏;臧建明<国际申请>=<国际公布>= |
地址: | 韩国京畿道龙仁*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本发明提供一种聚合物、包含所述聚合物的有机层组合物、由所述有机层组合物制成的有机层以及使用所述有机层组合物形成图案的方法。所述聚合物包含用化学式1表示的部分,所述化学式1的定义与具体实施方式中所定义的相同。所述聚合物同时确保抗蚀刻性和平面化特征。 | ||
搜索关键词: | 聚合物 有机 组合 以及 形成 图案 方法 | ||
【主权项】:
1.一种聚合物,由以下化学式2-1到化学式2-7中的一个表示:/n[化学式2-1]/n /n[化学式2-2]/n /n[化学式2-3]/n /n[化学式2-4]/n /n[化学式2-5]/n /n[化学式2-6]/n /n[化学式2-7]/n /n其中,在所述化学式2-1到化学式2-7中,/nR4以及R5独立地是氢、羟基、卤素、经取代或未经取代的C6到C30芳基或其组合,/nZ11到Z22独立地是羟基、甲氧基、乙氧基、卤素、经取代或未经取代的C6到C30芳基、经取代或未经取代的C3到C30环烯基、经取代或未经取代的C1到C20烷胺基、经取代或未经取代的C7到C20芳烷基、经取代或未经取代的C1到C20杂烷基、经取代或未经取代的C2到C30杂环烷基、经取代或未经取代的C2到C30杂芳基、经取代或未经取代的C1到C4烷基醚基、经取代或未经取代的C7到C20芳基亚烷基醚基、经取代或未经取代的C1到C30卤烷基或其组合,/nk、l、m、n、o、p、q、r、s、t、u以及v独立地是0到2的整数,以及/nn0是2到300的整数。/n
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