[发明专利]一种气流保护湿法刻蚀扩散面的装置

摘要

本发明公开了一种气流保护湿法刻蚀扩散面的装置，它包括：刻蚀机、刻蚀槽体、硅片、滚轮、腐蚀液液面、气泵、排气管、气孔、抽风机、抽风口和抽风管，所述的排气管位于硅片的上方，排气管上设有一排气孔，排气管和气泵相连，刻蚀机和刻蚀槽体的中间处设有抽风口，抽风口通过抽风管和抽风机相连，通过采用本发明，实现利用气流在硅片表面形成保护层，减少现有湿法刻蚀工艺中对扩散面产生的多余刻蚀区域，增加PN结的有效受光面积，提高光电转换效率，增加电池效率。

主权项

一种气流保护湿法刻蚀扩散面的装置，它包括：刻蚀机（1）、刻蚀槽体（2）、硅片（3）、滚轮（4）和腐蚀液液面（5），其特征在于：它还包括：气泵（6）、排气管（7）、气孔（8）、抽风机（9）、抽风口（10）和抽风管（11），所述的排气管（7）位于硅片（3）的上方，排气管（7）上设有一排气孔（8），排气管（7）和气泵（6）相连，刻蚀机（1）和刻蚀槽体（2）的中间处设有抽风口（10），抽风口（10）通过抽风管（11）和抽风机（9）相连。