[发明专利]一种制备多材料分区组成的薄膜层的掩膜方法

摘要

本发明提供了一种制备多材料分区组成的薄膜层的掩膜方法。所述的掩膜方法借助由基底、掩膜板、支撑架组成的掩膜机构，制备由两种或以上材料分区域组成的单层薄膜产品。本发明中，掩膜板须根据薄膜产品做特殊定制：每块掩膜板与薄膜产品中的每种材料一一对应，掩膜板上设置有与其对应材料在薄膜产品中的边界轮廓位置、形状、大小完全相同的开孔区域。制备多材料分区组成的薄膜层时，轮流更换沉积源材料的同时，轮流使用与之对应的掩膜板，直到所有掩膜板均轮流使用过一次后，多材料分区组成的薄膜层即制备完成。本发明采用的是机械掩膜方法，方法本身及其所借助的掩膜机构简单、易用、可靠，能大幅降低生产成本、提高薄膜产品质量。

主权项

一种制备多材料分区组成的薄膜层的掩膜方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：（a）.将单晶硅基底固定于支撑架上，置于镀膜装置的粒子照射区；（b）.取二氧化硅薄片，根据要制备的多材料分区组成的薄膜层中第一种材料的边界轮廓，在二氧化硅薄片上加工与之位置、形状、大小完全相同的开孔区域，作为第一块掩膜板；（c）.将第一块掩膜板覆盖在单晶硅基底上，覆盖时使掩膜板侧边定位销沿支撑架定位槽由上往下嵌入，覆盖后将掩膜板和单晶硅基底夹紧；（d）.沉积多材料分区组成的薄膜层中第一种薄膜材料；（e）.取下第一块掩膜板；（f）.参照步骤（b）~（e）,沉积多材料分区组成的薄膜层中第二种薄膜材料；（g）.参照步骤（b）~（e）,沉积多材料分区组成的薄膜层中第三种薄膜材料；（h）.参照步骤（b）~（e）,沉积其余薄膜材料直到多材料分区组成的薄膜层制备完成。