[发明专利]一种回风巷高位钻场密闭后观测单孔瓦斯浓度的方法有效
申请号: | 201510414363.4 | 申请日: | 2015-07-15 |
公开(公告)号: | CN104948167B | 公开(公告)日: | 2018-03-13 |
发明(设计)人: | 要春雷;张辉元;李洪生;朱成坦;张新文;任峰;肖祥奎 | 申请(专利权)人: | 贵州盘江精煤股份有限公司 |
主分类号: | E21B47/00 | 分类号: | E21B47/00;E21B49/00 |
代理公司: | 贵阳中新专利商标事务所52100 | 代理人: | 商小川 |
地址: | 553536*** | 国省代码: | 贵州;52 |
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摘要: | 本发明公开了一种回风巷高位钻场密闭后观测单孔瓦斯浓度的方法,包括埋丝管(2)、瓦斯管(5)及束管(4),待高位钻场(11)钻孔封孔结束后,利用束管(4)对每个钻孔进行连接。它还包括防进水装置(8)、负压采样器(9)及光学干涉瓦检器(10),待高位钻场(11)密闭后,单芯管(5)通过防进水装置(8)连接到负压采样器(9),进行钻孔(1)采样,并在负压采样器(9)出气端连接光干涉瓦斯检定器(10),观察瓦斯浓度变化。本发明解决了在高位钻场(11)密闭(14)后不能考察单孔(1)瓦斯浓度的变化,该方法操作简单、方便,极大的提高了基础参数的收集能力。 | ||
搜索关键词: | 一种 回风 高位 密闭 观测 单孔 瓦斯 浓度 方法 | ||
【主权项】:
一种回风巷高位钻场密闭后观测单孔瓦斯浓度的方法,包括高位钻场(11)、钻孔(1)、瓦斯管(6)、束管(4)、负压采样器(9)及光学干涉瓦检器(10),其特征在于:高位钻场(11)的钻孔(1)封孔结束后,利用束管(4)内的单芯管(5)对每个钻孔(1)进行插管,再把束管(4)引到高位钻场(11)下口回风巷(13)中,通过负压采样器(9)连至光干涉瓦斯检定器(10)观测瓦斯浓度;将单芯管(5)对每个钻孔(1)连抽的埋丝管(2)进行破小口插入并编号,插入后采用水泥或玛丽散进行插管周围密封;待斜巷(12)上口、中间及下口施工完三道密闭(14)后,单芯管(5)通过橡胶管(7)连至防进水装置(8)一端,另一端连接负压采样器(9)吸气口;打开负压采样器(9)并使另一端连至光干涉瓦斯检定器(10)进气端,待采样2‑10分钟后,观察光干涉瓦斯检定器(10)浓度变化,当浓度变化稳定后,为最终单孔瓦斯浓度,然后逐一观测每个钻孔(1)的瓦斯浓度。
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