[发明专利]一种双重版图的设计方法及系统有效
| 申请号： | 201510415365.5 | 申请日： | 2015-07-15 |
| 公开（公告）号： | CN106339519B | 公开（公告）日： | 2019-10-11 |
| 发明（设计）人： | 于丽贤;韦亚一;粟雅娟 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50 |
| 代理公司： | 北京维澳专利代理有限公司 11252 | 代理人： | 党丽;江怀勤 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种双重版图的设计方法，包括：提供分解版图；将分解版图进行光源掩膜协同优化仿真，获得限制重叠工艺窗口的热点区域；调整热点区域中图形的尺寸和/或间距，并进行光源掩膜协同优化仿真，以消除热点区域；将热点区域消除时设定的图形的尺寸和/间距添加至规则库中，获得更新的规则库；按照更新的规则库中的拆分规则，对至少包括热点区域的版图部分的图形进行拆分，获得热点区域分解版图；将热点区域分解版图更新至原始分解版图，获得更新的分解版图。该方法在设计过程中优化拆分，避免前期拆分不当产生设计缺陷而导致的反复拆分，简化设计并提高设计效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 双重 版图 设计 方法 系统 | ||
【主权项】：
1.一种双重版图的设计方法，其特征在于，包括：S01，提供分解版图；S02，将分解版图进行光源掩膜协同优化仿真，获得热点区域，热点区域为原始版图中限制重叠工艺窗口；S03，调整热点区域中图形的尺寸和/或间距，并进行光源掩膜协同优化仿真，以消除热点区域；S04，将热点区域消除时设定的图形的尺寸和/间距添加至规则库中，获得更新的规则库；S05，按照更新的规则库中的拆分规则，对至少包括热点区域的版图部分的图形进行拆分，获得热点区域分解版图；以及，将热点区域分解版图更新至原始分解版图，获得更新的分解版图。
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