[发明专利]集成非极性GaN纳米线高电子迁移率晶体管及其制备方法

摘要

本发明公开了集成非极性GaN纳米线高电子迁移率晶体管及其制备方法，包括衬底和位于衬底上的绝缘介质层，所述衬底表面为多个方形台面间隔排列，所述方形台面上刻蚀有多个凹槽，所述多个凹槽长度与方形台面内分别生长有异质结纳米线，所述绝缘介质层上形成有源极和漏极，所述源极和漏极分别位于异质结纳米线的两端并与分别与各异质结纳米线连接，所述源极和漏极之间形成有栅极，所述栅极与异质结纳米线之间设有栅介质层。本发明能将外延生长与器件的制备有机统一，大大简化了工艺步骤，优化了工艺方法。本发明解决了当前纳米线晶体管采用溶液稀释涂覆带来的不可控性及无序性，有效提高了纳米线晶体管制备的成功率。本发明可广泛应用于半导体领域。

主权项

集成非极性GaN纳米线高电子迁移率晶体管，其特征在于：包括衬底和形成在衬底上间隔排列的多个方形台面，各所述方形台面上设有绝缘介质层，所述绝缘介质层上刻蚀有多个贯穿方形台面侧边的凹槽，各所述凹槽内分别生长有异质结纳米线，所述绝缘介质层上形成有源极和漏极，所述源极和漏极分别位于异质结纳米线的两端并与分别与各异质结纳米线连接，所述源极和漏极之间形成有栅极，所述栅极与异质结纳米线之间设有栅介质层。