[发明专利]光源偏振优化方法和光源-掩膜-偏振优化方法有效
| 申请号： | 201510418311.4 | 申请日： | 2015-07-16 |
| 公开（公告）号： | CN106353970B | 公开（公告）日： | 2019-07-26 |
| 发明（设计）人： | 杜杳隽 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市磐华律师事务所 11336 | 代理人： | 董巍;高伟 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种光源偏振优化方法和光源‑掩膜‑偏振优化方法。所述光源偏振优化方法包括：将光源分成多个源块；将每个所述源块设置为具有多个偏振状态；基于所设置的每个所述源块的多个偏振状态计算所述光源的所有偏振配置；在测试图形上测试所述所有偏振配置；以及基于所述测试选择最佳偏振配置作为所述光源的最终偏振配置，所述最佳偏振配置针对所述测试图形具有最大工艺窗口。本发明所提供的光源偏振优化方法可以在实施光源‑掩膜优化之后实施，以实现有效的光源‑掩膜‑偏振优化，从而大大提高光刻成像的质量。 | ||
| 搜索关键词： | 光源 偏振 优化 方法 掩膜 | ||
【主权项】：
1.一种光源偏振优化方法，其特征在于，所述光源偏振优化方法包括：将光源分成多个源块；将每个所述源块设置为具有多个偏振状态；基于所设置的每个所述源块的多个偏振状态计算所述光源的所有偏振配置，各源块的任一偏振状态的组合为一种偏振配置；在测试图形上测试所述所有偏振配置；以及基于所述测试选择最佳偏振配置作为所述光源的最终偏振配置，所述最佳偏振配置针对所述测试图形具有最大工艺窗口。
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