[发明专利]流量补偿方法有效
| 申请号： | 201510420834.2 | 申请日： | 2015-07-17 |
| 公开（公告）号： | CN106695567B | 公开（公告）日： | 2020-03-27 |
| 发明（设计）人： | 金一诺;王坚;王晖 | 申请（专利权）人： | 盛美半导体设备(上海)股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B57/02 | 分类号： | B24B57/02 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 陆嘉 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明揭示了一种流量补偿方法，包括：选择一个腔体作为基准腔体，向基准腔体中输入液体，基准腔体的喷头喷射液体形成液柱，记录液柱高度为基准高度，记录基准腔体的液体流量为基准流量。选择另一腔体作为对照腔体，向对照腔体中输入液体，对照腔体的喷头喷射液体形成液柱，调节对照腔体的流体流量以使得对照腔体的液柱达到基准高度，记录对照腔体的液体流量为对照流量，计算对照流量与基准流量的差值为该对照腔体的补偿值。继续选择其他腔体作为对照腔体并分别计算各个对照腔体的补偿值，直至参与工艺流程的所有腔体的补偿值都计算完毕。在工艺流程中，向基准腔体提供的液体为基准流量，向其他腔体提供的液体流量为：基准流量+该腔体的补偿值。 | ||
| 搜索关键词： | 流量 补偿 方法 | ||
【主权项】：
一种流量补偿方法，其特征在于，包括：选择一个腔体作为基准腔体，向基准腔体中输入液体，基准腔体的喷口喷射液体形成液柱，记录液柱高度为基准高度，记录基准腔体的液体流量为基准流量；选择另一腔体作为对照腔体，向对照腔体中输入液体，对照腔体的喷口喷射液体形成液柱，调节对照腔体的流体流量以使得对照腔体的液柱达到基准高度，记录对照腔体的液体流量为对照流量，计算对照流量与基准流量的差值为该对照腔体的补偿值；继续选择其他腔体作为对照腔体并分别计算各个对照腔体的补偿值，直至参与工艺流程的所有腔体的补偿值都计算完毕；在工艺流程中，向基准腔体提供的液体为基准流量，向其他腔体提供的液体流量为：基准流量+该腔体的补偿值。
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