[发明专利]一种可实现高效封装的GaN基LED芯片制备方法有效

专利信息
申请号: 201510428655.3 申请日: 2015-07-21
公开(公告)号: CN105161605B 公开(公告)日: 2017-11-24
发明(设计)人: 曹志芳;夏伟;闫宝华;徐现刚 申请(专利权)人: 山东浪潮华光光电子股份有限公司
主分类号: H01L33/52 分类号: H01L33/52;H01L25/075;H01L21/56;H01L21/60
代理公司: 济南日新专利代理事务所37224 代理人: 王书刚
地址: 261061 *** 国省代码: 山东;37
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摘要: 一种可实现高效封装的GaN基LED芯片制备方法,包括以下步骤(1)制备外延片,在外延片表面蒸镀一层ITO透明导电层;(2) 制作P电极和N电极;保留P电极和N电极上的光刻胶掩膜,暂不去除;(3)对外延片进行切割,形成单颗芯片单元,切割至衬底处,使相邻芯片单元之间形成隔离槽;(4)在带有隔离槽的外延片表面沉积SiO2,利用湿法腐蚀去除芯片电极表面的光刻胶掩膜;(5)对芯片单元进行金属化连接;(6)根据封装要求切割出所需的LED芯片。本发明从LED芯片工艺制程上预先进行串并连接,然后再进行封装制程;可根据需求切割出相应的芯片,直接进行封装,具有封装过程操作方便、封装效率高、成本低、产品性能稳定、发光效率高、可靠性好等特点。
搜索关键词: 一种 实现 高效 封装 gan led 芯片 制备 方法
【主权项】:
一种可实现高效封装的GaN基LED芯片制备方法,其特征是,包括以下步骤:(1)制备外延片;在衬底上生长外延层,形成外延片;外延层由下至上依次为GaN层、N型GaN层、量子阱有源区和P型GaN层;在外延片表面蒸镀一层ITO透明导电层;(2)制作P电极和N电极;利用光刻胶做掩膜,在外延片表面制作P电极图形和N电极图形;用湿法腐蚀去除电极图形之外的光刻胶掩膜,对ITO进行退火形成P电极的欧姆接触层;利用光刻胶做掩膜,制备p、n电极图形在N电极图形上刻蚀去除P型GaN层和量子阱有源区,使N型GaN层露出,形成N电极,保留P电极和N电极上的光刻胶掩膜,暂不去除;(3)对外延片进行切割,形成单颗芯片单元,切割至衬底处,使相邻芯片单元之间形成隔离槽;(4)通过金属有机物化学气相沉积法在带有隔离槽的外延片表面沉积SiO2,以作为芯片单元表面的保护层、芯片单元侧壁的钝化层以及隔离槽内的填充物,利用湿法腐蚀去除芯片电极表面的光刻胶掩膜;(5)在芯片单元表面蒸镀金属层,对芯片单元进行金属化连接,去除不需要连接的部分金属,使每列上相邻芯片单元的电极进行串联,每行上相邻芯片单元的电极进行并连;(6)根据封装要求切割出所需的LED芯片。
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