[发明专利]一种用于质谱仪离子化以及离子引入装置有效
| 申请号： | 201510430131.8 | 申请日： | 2015-07-21 |
| 公开（公告）号： | CN106373853B | 公开（公告）日： | 2018-10-09 |
| 发明（设计）人： | 王睿;沈嘉祺;金峤;孙文剑 | 申请（专利权）人： | 株式会社岛津制作所 |
| 主分类号： | H01J49/04 | 分类号： | H01J49/04;H01J49/16 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人： | 高园园 |
| 地址： | 日本国京*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于质谱仪离子化以及离子引入装置，包括一个低于大气压的电离源腔室；至少一个电离源，置于所述电离源腔室内；至少一个离子聚焦导引装置腔室，用于导引离子进入与所述离子聚焦导引装置腔室相连的质量分析装置腔室；至少一个低于大气压的传输腔室，处于所述电离源腔室与所述离子聚焦导引装置腔室之间，包括所述电离源腔室到所述传输腔室的入口和所述传输腔室到所述离子聚焦导引装置腔室的出口；所述传输腔室的气压低于所述电离源腔室的气压，高于所述离子聚焦导引装置腔室的气压。本发明的用于质谱仪离子化以及离子引入装置将电离源从大气压环境转移到低于大气压环境，提高离子的传输效率，进一步提高质谱仪的检测灵敏度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 质谱仪 离子化 以及 离子 引入 装置 | ||
【主权项】：
1.一种用于质谱仪离子化以及离子引入装置，其特征在于：包括：一个低于大气压的电离源腔室；至少一个电离源，置于所述电离源腔室内，用于生成离子；所述电离源包括电喷雾离子源、辉光放电离子源、介质阻挡放电离子源、化学电离离子源、解吸附电晕束离子源、激光解吸附离子源及光电离离子源中的一种或者组合；至少一个离子聚焦导引装置腔室，用于导引离子进入与所述离子聚焦导引装置腔室相连的质量分析装置腔室；至少一个低于大气压的传输腔室，处于所述电离源腔室与所述离子聚焦导引装置腔室之间，包括所述电离源腔室到所述传输腔室的入口和所述传输腔室到所述离子聚焦导引装置腔室的出口；所述传输腔室的气压低于所述电离源腔室的气压，高于所述离子聚焦导引装置腔室的气压；所述传输腔室还包括至少一个真空泵抽口，用于与真空泵相连，降低所述电离源腔室气压，辅助所述电离源腔室实现低于大气压环境；所述电喷雾离子源对应的低于大气压的气压范围为1～300Torr；所述辉光放电离子源对应的低于大气压的气压范围为0.0001～300Torr；所述光电离离子源对应的低于大气压的气压范围为0.0001～300Torr。
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