[发明专利]半导体装置有效
申请号: | 201510430964.4 | 申请日: | 2015-07-21 |
公开(公告)号: | CN106373996B | 公开(公告)日: | 2019-12-31 |
发明(设计)人: | 廖文甲 | 申请(专利权)人: | 台达电子工业股份有限公司 |
主分类号: | H01L29/778 | 分类号: | H01L29/778;H01L29/06 |
代理公司: | 72003 隆天知识产权代理有限公司 | 代理人: | 李昕巍;赵根喜 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;TW |
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摘要: | 本发明实施例公开了一种半导体装置包含基板、主动层、晶体管与电容。主动层置于基板上。主动层区隔出第一部分与第二部分。晶体管包含主动层的第一部分、源极、漏极与栅极。源极与漏极分别电性连接第一部分。栅极置于第一部分上并置于源极与漏极之间。电容包含主动层的第二部分、第一电极、第一绝缘层与第二电极。第一电极电性连接第二部分与晶体管的源极。第一绝缘层置于第二部分上。第二电极置于第一绝缘层上并电性连接晶体管的栅极。本发明实施例的技术方案通过电容以增加晶体管的栅极‑源极电容,从而降低半导体装置的米勒比例,使半导体装置的操作状态更佳,较容易实现高频工作,且可最小化击穿电流值。 | ||
搜索关键词: | 半导体 装置 | ||
【主权项】:
1.一种半导体装置,包含:/n一基板;/n一主动层,置于该基板上,该主动层区隔出一第一部分与一第二部分;/n一晶体管,置于该基板上,该晶体管包含:/n该主动层的该第一部分;/n一源极与一漏极,分别电性连接该第一部分;以及/n一栅极,置于该第一部分上并置于该源极与该漏极之间;以及一电容,置于该基板上,该电容包含:/n该主动层的该第二部分;/n一第一电极,电性连接该第二部分与该晶体管的该源极;/n一第一绝缘层,置于该第二部分上;以及/n一第二电极,置于该第一绝缘层上并电性连接该晶体管的该栅极;/n一隔离部,置于该主动层中并置于该第一部分与该第二部分之间;/n其中,该主动层于异质接合处产生二维电子气,做为导电通道。/n
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