[发明专利]线偏振平面光波对处于石墨烯衬底上方微粒的可调谐捕获和筛选的方法有效
申请号: | 201510431134.3 | 申请日: | 2015-07-21 |
公开(公告)号: | CN105137586B | 公开(公告)日: | 2022-11-18 |
发明(设计)人: | 曹暾 | 申请(专利权)人: | 大连理工大学 |
主分类号: | G02B21/32 | 分类号: | G02B21/32;G21K1/00 |
代理公司: | 大连理工大学专利中心 21200 | 代理人: | 梅洪玉 |
地址: | 116024 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 一种线偏振平面光波对处于石墨烯衬底上方微粒的可调谐捕获和筛选的方法,通过将微粒置于石墨烯衬底平板上方,破坏微粒周围的玻印亭矢量的对称分布,使微粒上的总玻印亭矢量不为零,产生非梯度光学力;然后,通过改变石墨烯衬底平板的费米能级,改变微粒上的总玻印亭矢量的方向和大小,进而改变总玻印亭矢量作用在微粒上的非梯度光学力的方向和大小,来调控微粒在入射光场中的运动轨迹。其中,可以通过改变外加电场、温度、注入光强、和石墨烯的厚度等方式改变石墨烯衬底平板的费米能级,进而改变石墨烯的介电系数及电导率。 | ||
搜索关键词: | 偏振 平面 光波 处于 石墨 衬底 上方 微粒 调谐 捕获 筛选 方法 | ||
【主权项】:
一种线偏振平面光波对处于石墨烯衬底上方微粒的可调谐捕获和筛选的方法,其特征在于,将微粒置于石墨烯衬底平板上方,该石墨烯衬底平板破坏了微粒周围的玻印亭矢量对称分布,使微粒上的总玻印亭矢量不为零,产生非梯度光学力;通过改变石墨烯衬底平板的石墨烯费米能级,改变微粒上的总玻印亭矢量分布,进而改变总玻印亭矢量作用在微粒上的非梯度光学力的方向和大小,来调控微粒在入射光场中的运动轨迹,从而对附着在微粒表面的纳米尺寸分子进行可调谐捕获和筛选,其中,微粒置于石墨烯衬底平板上方,微粒材料是介质或金属,石墨烯衬底平板的长、宽、高在10纳米到10米,微粒与石墨烯衬底平板表面的距离为l,l>0;微粒的外形是曲面几何体或多面体,体积在1立方纳米至1000立方微米。
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