[发明专利]高聚物纳米柱阵列、微反应室阵列的制备方法及应用

摘要

本申请揭示了一种高聚物纳米柱阵列、微反应室的制备方法及应用，用于解决现有技术中制备纳米级的微反应室阵列成本高，容易对被检测物造成损伤的问题。该方法包括以下步骤：提供具有纳米孔道阵列的模板，该纳米孔道阵列由分布在模板上的纳米级盲孔组成；将高聚物的单体、预聚体、溶融体中的至少一种填充于该模板内并固化成型；去除该模板，获得高聚物纳米柱阵列。

主权项

1.一种高聚物纳米柱阵列的制备方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：提供具有纳米孔道阵列的模板，所述纳米孔道阵列由分布在模板上的纳米级盲孔组成；将所述模板浸泡到加入引发剂和交联剂的甲基丙烯酸甲酯MMA中低功率超声，并冷藏；取出所述模板，在所述模板表面施加交联聚甲基丙烯酸甲酯PMMA的预聚体，并加热至温度T1；将加热温度从温度T1降低并保持在温度T2，直至所述模板中聚合形成聚甲基丙烯酸甲酯PMMA纳米柱阵列；其中，50℃≤温度T2≤温度T1≤90℃；去除所述模板，获得高聚物纳米柱阵列。