[发明专利]用于无掩模直写光刻的系统和方法有效
| 申请号： | 201510434808.5 | 申请日： | 2015-07-22 |
| 公开（公告）号： | CN105809720B | 公开（公告）日： | 2019-09-06 |
| 发明（设计）人： | 吴政机;杨政宪;王文娟;林世杰 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G06T9/00 | 分类号： | G06T9/00 |
| 代理公司： | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人： | 章社杲;李伟 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开了用于无掩模直写光刻的系统和方法。该方法包括：接收表示集成电路(IC)布局的多个像素；识别适合于第一压缩方法的像素的第一子集；以及识别适合于第二压缩方法的像素的第二子集。该方法还包括分别使用第一压缩方法和第二压缩方法压缩第一子集和第二子集，从而产生压缩数据。该方法还包括将压缩数据传输至无掩模直写器，以用于制造衬底。在实施例中，第一压缩方法使用行程编码，并且第二压缩方法使用基于词典的编码。由于混合压缩方法，压缩数据能够以足够用于大批量IC制造的数据速率膨胀比率进行解压缩。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 无掩模直写 光刻 系统 方法 | ||
【主权项】：
1.一种形成集成电路(IC)的方法，包括以下步骤：接收表示集成电路(IC)布局的多个像素；识别适合于第一压缩方法的所述像素的第一子集；识别适合于第二压缩方法的所述像素的第二子集，其中，所述第二子集与所述第一子集不重叠，其中，所述第二压缩方法是基于词典的压缩方法，识别所述第二子集包括以下步骤：初始化剩余子集，所述剩余子集包括除了所述第一子集中的像素之外的所述多个像素的成员；初始化词典；从所述剩余子集选择候选词，其中，所述候选词具有M个连续像素的词长；核对所述剩余子集中的所述候选词的事件的数量；以及如果所述事件的数量大于事件阈值并且所述词典未满，实施包括以下步骤的更新过程：将所述候选词添加到所述词典；和将所述候选词的所有事件从所述剩余子集移至所述第二子集；对所述像素实施压缩过程，从而产生压缩数据，其中，所述压缩过程包括：使用所述第一压缩方法压缩所述第一子集；和使用所述第二压缩方法压缩所述第二子集；以及将所述压缩数据传输至无掩模直写器，以用于制造衬底。
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