[发明专利]针对特定重复图形的光学临近效应修正方法

摘要

本发明提供了一种针对特定重复图形的光学临近效应修正方法，包括：将待修正的整个版图划分成特定重复图形区域和非特定重复图形，其中特定重复图形区域指的是包含重复图形基本单元的版图区域，所述重复图形基本单元是图形对称且含有非水平垂直的边的图形单元；采用常规光学临近效应修正方法修正非特定重复图形区域，以获取第一修正结果；采用限制性光学临近效应修正方法修正特定重复图形区域，以获取第二修正结果；将所述第一修正结果和所述第二修正结果组合拼接起来，作为用于制造光罩的图形。

主权项

1.一种针对特定重复图形的光学临近效应修正方法，其特征在于包括：第一步骤：将待修正的整个版图划分成特定重复图形区域和非特定重复图形，其中特定重复图形区域指的是包含重复图形基本单元的版图区域，所述重复图形基本单元是图形对称且含有非水平非垂直的边的图形单元；第二步骤：采用常规光学临近效应修正方法修正非特定重复图形区域，以获取第一修正结果；第三步骤：采用限制性光学临近效应修正方法修正特定重复图形区域，以获取第二修正结果；第四步骤：将所述第一修正结果和所述第二修正结果组合拼接起来，作为用于制造光罩的图形；其中，所述常规光学临近效应修正方法包括：对非特定重复图形区域进行多次模拟和修正，以得到模拟结果与目标版图一致的修正后版图作为所述第一修正结果，其中各次模拟和修正时的关键边的后退值相同；所述限制性光学临近效应修正方法包括：定义重复图形基本单元的关键边；对特定重复图形区域进行多次模拟和修正，以得到模拟结果与目标版图一致的修正后版图作为所述第二修正结果，其中各次模拟和修正时的关键边的后退值不同。