[发明专利]数据修正装置及方法、描画装置及方法、检查装置及方法和存储有程序的记录介质有效
申请号: | 201510438510.1 | 申请日: | 2015-07-23 |
公开(公告)号: | CN105278236B | 公开(公告)日: | 2019-11-08 |
发明(设计)人: | 山田亮 | 申请(专利权)人: | 斯克林集团公司 |
主分类号: | G03F1/36 | 分类号: | G03F1/36;G03F1/44;G03F1/80 |
代理公司: | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 金相允;向勇 |
地址: | 日本国京*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供数据修正装置及方法、描画装置及方法、检查装置及方法和存储有程序的记录介质。数据修正部(21)具有:设计数据存储部(211),存储通过在基板上蚀刻形成的图案的设计数据;蚀刻特性存储部(212),存储与基板的多个基准位置分别对应的多个蚀刻特性;区域蚀刻特性获取部(213),基于基板上的各分割区域与多个基准位置的分别的位置关系求出各分割区域的区域蚀刻特性;以及分割数据修正部(214),将设计数据分割成与多个分割区域对应的多个分割数据,基于各分割区域的区域蚀刻特性来修正各分割数据。由此,能够考虑由于各分割区域在基板上的位置的区别导致的蚀刻特性的差异,以良好的精度对各分割数据进行蚀刻修正。 | ||
搜索关键词: | 蚀刻特性 分割区域 分割数据 基板 设计数据 存储 蚀刻 数据修正装置 基准位置 检查装置 描画装置 存储部 修正 数据修正部 图案 分割 | ||
【主权项】:
1.一种数据修正装置,用于修正通过蚀刻而形成在对象物上的图案的设计数据,其特征在于,具有:设计数据存储部,存储通过蚀刻而形成在对象物上的图案的设计数据;蚀刻特性存储部,存储与所述对象物上的多个基准位置分别对应的多个蚀刻特性,其中,所述图案中包括的图形构件之间的间隙宽度和所述对象物上的所述图形构件被过剩地蚀刻的蚀刻量之间的关系作为所述蚀刻特性;区域蚀刻特性获取部,针对在所述对象物上设定的多个分割区域中的每一个,在基于各分割区域与所述多个基准位置的分别的位置关系对所述多个蚀刻特性进行加权处理后,基于进行了加权处理的所述多个蚀刻特性,求出所述各分割区域的蚀刻特性即区域蚀刻特性;以及分割数据修正部,将所述设计数据分割成与所述多个分割区域对应的多个分割数据,基于与各分割数据对应的所述各分割区域的所述区域蚀刻特性来修正所述各分割数据。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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