[发明专利]防污抗反射膜以及具有该防污抗反射膜的盖板和电子设备有效
| 申请号： | 201510439886.4 | 申请日： | 2015-07-24 |
| 公开（公告）号： | CN106707380B | 公开（公告）日： | 2018-10-02 |
| 发明（设计）人： | 洪文郎;马绍栋 | 申请（专利权）人： | 上海和辉光电有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/115 | 分类号： | G02B1/115;G02B1/18 |
| 代理公司： | 上海隆天律师事务所 31282 | 代理人： | 臧云霄;胡洁 |
| 地址： | 201500 上海市金山区*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种防污抗反射膜、具有该防污抗反射膜的盖板以及采用该盖板的电子设备；该防污抗反射膜包括抗反射膜和覆设于抗反射膜上的防污膜，其中，抗反射膜具有六层膜结构，该六层膜以距离防污膜由远及近依次为：第一层SiNx层，第二层SiO2层，第三层SiNx层，第四层SiO2层，第五层SiNx和第六层SiO2层。本发明的防污抗反射膜，在保证了防污功能的基础上，改善了抗反射性能且具有更好的硬度。 | ||
| 搜索关键词： | 防污 反射 以及 具有 盖板 电子设备 | ||
【主权项】：
1.一种防污抗反射膜，其包括抗反射膜和覆设于所述抗反射膜上的防污膜，其特征在于：所述抗反射膜具有六层膜结构，该六层膜以距离防污膜由远及近依次为：第一层SiNx层，第二层SiO2层，第三层SiNx层，第四层SiO2层，第五层SiNx和第六层SiO2层；所述六层膜对应的折射率依次定义为：n1、n2、n3、n4、n5、n6；所述六层膜的光学膜厚依次定义为：d1、d2、d3、d4、d4、d5、d6；其中，2.0≤n1＝n3＝n5≤2.2；1.4≤n2＝n4＝n6≤1.6；15nm≤d1≤25nm；25nm≤d2≤35nm；40nm≤d3≤50nm；10nm≤d4≤15nm；30nm≤d5≤40nm；70nm≤d6≤80nm；所述防污膜的折射率为1.3～1.4；光学膜厚为15nm～30nm；当所述d6为一定值时，所述防污膜的光学膜厚的取值与其折射率成反比。
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