[发明专利]一种真空灭弧室及其操作方法

摘要

本发明提供了一种真空灭弧室及其操作方法。该真空灭弧室包括：外壳；静端部，静端部包括静端连接盘、第一静触头和第二静触头，第一静触头与第二静触头电连接，第一静触头采用C_uW材料，第二静触头采用C_uC_r材料；第一动端部，第一动端部包括第一动触头，第一动触头具有与第一静触头闭合时的合闸位置以及与第一静触头分离时的分闸位置，第一动触头采用C_uW材料；第二动端部，第二动端部包括第二动触头，第二动触头具有与第二静触头闭合时的合闸位置以及与第二静触头分离时的分闸位置，第二动触头采用C_uC_r材料。

主权项

一种真空灭弧室，其特征在于，包括：外壳；静端部(20)，所述静端部(20)包括静端连接盘(21)、第一静触头(22)和第二静触头(23)，所述静端连接盘(21)与所述外壳连接以形成相互独立的第一灭弧腔室和第二灭弧腔室，所述第一静触头(22)与所述第二静触头(23)分别位于所述静端连接盘(21)的两侧，所述第一静触头(22)位于所述第一灭弧腔室内，所述第二静触头(23)位于所述第二灭弧腔室内，且所述第一静触头(22)与所述第二静触头(23)电连接，其中，所述第一静触头(22)采用C_uW材料，所述第二静触头(23)采用C_uC_r材料；第一动端部(30)，所述第一动端部(30)包括第一动触头(31)，所述第一动触头(31)位于所述第一灭弧腔室内，所述第一动触头(31)具有与所述第一静触头(22)闭合时的合闸位置以及与所述第一静触头(22)分离时的分闸位置，其中，所述第一动触头采用C_uW材料；第二动端部(40)，所述第二动端部(40)包括第二动触头(41)，所述第二动触头(41)位于所述第二灭弧腔室内，所述第二动触头(41)具有与所述第二静触头(23)闭合时的合闸位置以及与所述第二静触头(23)分离时的分闸位置，其中，所述第二动触头(41)采用C_uC_r材料。