[发明专利]用于化学机械抛光含有钌和铜的衬底的方法有效
| 申请号： | 201510441678.8 | 申请日： | 2015-07-24 |
| 公开（公告）号： | CN105313001B | 公开（公告）日： | 2018-12-07 |
| 发明（设计）人： | H·王;L·M·库克;J-F·王;C-H·曹 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/04 | 分类号： | B24B37/04;H01L21/02;C09G1/02 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 陈哲锋;胡嘉倩 |
| 地址： | 美国特*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种用于化学机械抛光包含钌和铜的衬底的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 化学 机械抛光 含有 衬底 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于化学机械抛光衬底的方法，其包含：提供抛光机；提供衬底，其中所述衬底包含钌和铜；提供化学机械抛光浆料组合物，其用于抛光包含钌和铜的衬底，包含以下各者作为初始组分：水；7wt％到12wt％胶态二氧化硅研磨剂，其中所述胶态二氧化硅研磨剂具有25nm到85nm的平均粒径；0.07wt％到1wt％次氯酸钠；0.01wt％到0.1wt％丙烯酸与甲基丙烯酸的共聚物，其中所述丙烯酸与甲基丙烯酸的共聚物的丙烯酸与甲基丙烯酸比率为1:5到5:1并且重量平均分子量为15,000g/mol到30,000g/mol；0.03wt％到0.05wt％苯并三唑；0.001wt％到0.0025wt％聚(甲基乙烯基醚)，其中所述聚(甲基乙烯基醚)具有25,000g/mol到40,000g/mol的重量平均分子量；0.0075wt％到0.015wt％非离子表面活性剂，其中所述非离子表面活性剂是聚乙二醇脱水山梨糖醇单月桂酸酯；其中所述化学机械抛光浆料组合物具有10到11的pH；提供化学机械抛光垫；将所述化学机械抛光垫和所述衬底安设在所述化学机械抛光机中；以0.69kPa到34.5kPa的下压力产生在所述化学机械抛光垫与所述衬底之间的动态接触；接近于所述化学机械抛光垫与所述衬底之间的介面分配所述化学机械抛光浆料组合物；其中所述化学机械抛光浆料组合物与所述衬底的钌和铜接触；其中所述衬底被抛光；并且其中一部分所述钌被从所述衬底去除。
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