[发明专利]在玻璃表面等离子体刻蚀形成纹理结构的方法

摘要

本发明提供一种在玻璃工件表面等离子体刻蚀形成纹理结构的方法，主要是将所述玻璃工件置于等离子体气氛中，所述等离子体发生室通入刻蚀气体，所述刻蚀气体为碳氢气体和H2的混合气体，所述等离子体发生室中的各气体的分压保持在Ar碳氢气体H2=1210的状态，在清洗后的玻璃工件表面形成含碳的纹理结构。该方法可以提高膜基界面的结合强度，还能防止化学刻蚀所带来的设备腐蚀及环境污染问题；同样避免采用含氟气体的等离子刻蚀所引起的设备腐蚀及环境污染问题；解决了利用物理刻画和激光刻蚀技术的低效率、高成本和难以微纳细微刻蚀的问题；而且可以在玻璃工件表面全程无污染、低成本地细微刻蚀玻璃工件表面形成表面纹理结构。

主权项

一种在玻璃工件表面等离子体刻蚀形成纹理结构的方法，包括以下步骤：步骤一、提供等离子体刻蚀设备，所述等离子体刻蚀设备包括所述等离子体发生室、与所述等离子体发生室连通的抽真空装置、设置在所述等离子体发生室内部的阳极结构和与所述阳极结构间隔设置的阴极结构，所述阳极结构和所述阴极结构分别设置所述等离子体发生室内部相对设置的两端，所述阳极结构与所述等离子体发生室电连接，所述阴极结构与所述等离子体发生室电绝缘，所述阴极结构包括阴极板、用于罩所述阴极板的阳极罩筒和绝缘板；将玻璃工件置于所述阳极罩筒上，使所述玻璃工件与所述阳极罩筒和所述绝缘板形成电气绝缘腔，将所述阴极板与所述阳极罩筒电绝缘；调整所述阳极结构与所述玻璃工件之间的间距至预定距离；采用抽真空装置将所述等离子体发生室内的真空压力抽至低于5×10‑3 Pa；步骤二、向所述等离子体发生室中通入Ar气至所述等离子体发生室内的真空压力至0.4～0.6 Pa，保持Ar气流量不变，对所述玻璃工件表面进行等离子清洗；步骤三、保持Ar气流量不变，向所述等离子体发生室通入刻蚀气体，所述刻蚀气体为碳氢气体和H2的混合气体，所述等离子体发生室中的各气体的分压保持在Ar：碳氢气体：H2=1:2:10的状态，在清洗后的玻璃工件表面形成含碳的纹理结构。