[发明专利]混合自组装分子层修饰的基底表面沉积纳米金颗粒的方法

摘要

本发明公开了一种混合自组装分子层修饰的基底表面沉积纳米金颗粒的方法，该方法包括将将氧化物或无机基底的表面进行洁净处理，去除硅表面的油脂、油污等有机物、无机物和氧化层，使基底表面羟基化；随后采用分步法，在预处理过的硅基底浸入含有有机硅烷自组装分子的溶液中，进行硅表面分子自组装修饰，得到不同的有机链混合生长的自组装单分子层；最后在已生长有混合自组装单分子层的基底表面采用柠檬酸盐法沉积金纳米颗粒。按照本发明使用的基底清洗方法和改性方法可通过自组装分子的生长时间来实现对金纳米颗粒均匀分布的调控，能制备出分布均匀的金纳米颗粒，其粒径可达10～100nm，且纳米金颗粒与基底之间有较好的结合力。

主权项

一种混合自组装分子层修饰的基底表面沉积纳米金颗粒的方法，该方法包括如下步骤：1)将基底表面洁净处理，除去表面氧化层并使表面羟基化；2)采用分步法制备混合自组装分子层修饰所述基底表面，使其具有可与金属离子发生化学键合的和不可与金属离子发生化学键合的不同官能团，其中，形成可与金属离子发生化学键合的官能团的方法为将硅片浸入尾部基团为巯基的有机硅烷偶联剂溶液，浸入的时间范围为6‑24小时；形成不可与金属离子发生化学键合的官能团的方法为将硅片浸入带有甲基、烯基或羰基基团中的一种或几种混合的溶液，浸入的时间范围为1‑30分钟；3)化学还原沉积金纳米颗粒。