[发明专利]一种可剥离衬底的薄膜电容器制备方法有效

专利信息
申请号: 201510449369.5 申请日: 2015-07-28
公开(公告)号: CN105006362B 公开(公告)日: 2018-06-19
发明(设计)人: 徐华蕊;朱归胜 申请(专利权)人: 桂林电子科技大学
主分类号: H01G4/33 分类号: H01G4/33
代理公司: 广西南宁汇博专利代理有限公司 45114 代理人: 邹超贤
地址: 541004 广*** 国省代码: 广西;45
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摘要: 发明公开了一种可剥离衬底的薄膜电容器制备方法。其工艺步骤为:①在衬底上旋涂一定厚度的聚胺脂胶层,并用紫外光固化;②采用溶胶凝胶或溅射法制备介质层;③采用溅射法制备电极层,并利用激光刻蚀获得图案化电极图层;④再按介质层/电极图层/介质层/电极图层的方式依次制备,并在电容器长边的两端制备端电极,形成叉指结构的单层或多层薄膜电容器;⑤将上述薄膜电容器放入电阻炉,在一定温度进行退火处理,使介质层晶化并烧掉有机层,实现薄膜电容器从衬底上的剥离。本发明无需使用酸或碱等腐蚀物质即可实现器件与衬底的剥离,具有工艺简单、易于工业化的特点,特别适合于制作各种单层或多层薄膜元器件。 1
搜索关键词: 衬底 薄膜电容器 介质层 制备 电极图 可剥离 单层 溅射 剥离 多层薄膜电容器 电容器 法制备电极 图案化电极 紫外光固化 叉指结构 多层薄膜 工艺步骤 激光刻蚀 溶胶凝胶 退火处理 电阻炉 端电极 聚胺脂 有机层 元器件 长边 放入 胶层 晶化 上旋 图层 并用 腐蚀 制作
【主权项】:
1.一种可剥离衬底的薄膜电容器制备方法,其特征在于:包括有机胶层制备、介质层制备、电极图层制备、复合层制备、剥离工序,其工艺步骤为:①胶层制备:在衬底上旋涂一定厚度的聚胺脂胶层,并用紫外光固化;②介质层制备:采用溶胶凝胶或溅射法制备介质层;③电极图层制备:采用溅射法制备电极层,并利用激光刻蚀获得图案化电极图层;④复合层制备:再按介质层/电极图层/介质层/电极图层的方式依次制备,并在电容器长边的两端制备端电极,形成叉指结构的单层或多层薄膜电容器;⑤剥离:将上述薄膜电容器放入电阻炉,在一定温度进行退火处理,使介质层晶化并烧掉有机层,实现薄膜电容器从衬底上的剥离;所述的聚胺脂层的厚度为0.2~5μm,所述电极层的单层的厚度为0.1~2μm,所述的介质层的单层厚度为0.2~3μm;所述薄膜电容器退火温度为500~800℃,时间为15~120分钟;所述的衬底包括氧化铝、石英、硅片、氧化锆、钛酸锶单晶片;所述的电极图层为金属或非金属无机氧化物薄膜材料;所述的介质层为BaTiO3或PZT介电薄膜材料;所述的介质层是一层或多层。
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