[发明专利]成膜装置有效
申请号: | 201510450869.0 | 申请日: | 2015-07-28 |
公开(公告)号: | CN105316656B | 公开(公告)日: | 2019-10-25 |
发明(设计)人: | 福岛讲平;本山丰;周保华 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/52 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种成膜装置。该成膜装置具备:分别限定性地向沿着基板保持件中的基板的排列方向的第一和第二基板保持区域供给原料气体的第一原料气体供给部和第二原料气体供给部、向第一和第二基板保持区域供给反应气体的反应气体供给部、在第一和第二基板保持区域中的某一方被供给原料气体时向另一方供给吹扫气体的吹扫气体供给部、在基板保持件中被保持在第一基板保持区域与第二基板保持区域之间且划分出第一基板保持区域和第二基板保持区域的划分用基板、以及输出控制信号使得将包括向第一基板保持区域的原料气体的供给和反应气体的供给的循环以及包括向第二基板保持区域的原料气体的供给和反应气体的供给的循环分别进行多次的控制部。 | ||
搜索关键词: | 装置 | ||
【主权项】:
1.一种成膜装置,在纵型的反应容器内配置有将多个基板保持为架状的基板保持件的状态下,将原料气体以及与该原料气体进行反应来生成反应生成物的反应气体交替地供给到上述反应容器内来在基板上成膜,该成膜装置具备:第一原料气体供给部、第二原料气体供给部,该第一原料气体供给部、第二原料气体供给部分别限定性地向沿着上述基板保持件中的基板的排列方向的第一基板保持区域和第二基板保持区域供给上述原料气体;反应气体供给部,其向上述第一基板保持区域和第二基板保持区域供给反应气体;吹扫气体供给部,其在上述第一基板保持区域和第二基板保持区域中的某一方被供给上述原料气体时,向上述第一基板保持区域和第二基板保持区域中的另一方供给用于防止被供给上述原料气体的吹扫气体;划分用基板,其在上述基板保持件中被保持在上述第一基板保持区域与上述第二基板保持区域之间,将上述基板保持件划分为第一基板保持区域和第二基板保持区域;以及控制部,其输出控制信号,使得将第一循环和第二循环分别进行多次,该第一循环包括向第一基板保持区域的原料气体的供给和反应气体的供给,该第二循环包括向第二基板保持区域的原料气体的供给和反应气体的供给,其中,上述控制部输出控制信号,使得将上述第一循环和上述第二循环进行互不相同的次数,其中,从上述第一原料气体供给部和上述第二原料气体供给部供给的原料气体的种类互不相同,其中,所述第一基板保持区域和所述第二基板保持区域共用所述反应气体供给部,其中,第一期间与第二期间相互重叠,并且上述第二期间比上述第一期间长,其中,该第一期间是进行包括向上述第一基板保持区域的原料气体的供给和反应气体的供给的第一循环中的上述原料气体的供给的期间,该第二期间是进行包括向上述第二基板保持区域的原料气体的供给和反应气体的供给的第二循环中的上述原料气体的供给的期间,上述控制部输出控制信号,使得在包含于上述第二期间并且处于上述第一期间以外的期间内向上述第一基板保持区域供给上述吹扫气体。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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