[发明专利]一种低成本FeS2薄膜太阳电池的制备方法有效
申请号: | 201510450904.9 | 申请日: | 2015-07-29 |
公开(公告)号: | CN105140338B | 公开(公告)日: | 2017-07-04 |
发明(设计)人: | 杨雯;段良飞;杨培志;李学铭;赵恒利 | 申请(专利权)人: | 云南师范大学 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 650500 云*** | 国省代码: | 云南;53 |
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摘要: | 本发明专利提供一种低成本FeS2薄膜太阳电池的制备方法。主要是通过在衬底上制备钼背电极,在背电极上制备FeS2薄膜并进行硫化形成P层,进而制备CdS薄膜作为缓冲层,在缓冲层上制备i‑ZnO及ZnOAl薄膜,最后制备MgF2减反膜,经过激光刻蚀和清洗后制备Ag‑Mg合金作为前电极,从而制备出结构为衬底/Mo/FeS2/CdS/i‑ZnO/ZnOAl/MgF2/Ag‑Mg的FeS2薄膜太阳电池。这种结构的太阳电池中其核心材料FeS2和ZnO组成元素储量大、无毒,能有效降低太阳电池的成本,FeS2属于黄色立方结构的二元化合物,具有吸收系数大、带隙可调及稳定性好等优点,是理想的光伏材料之一,有望获得稳定、高效的太阳电池。 | ||
搜索关键词: | 一种 低成本 fes sub 薄膜 太阳电池 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种低成本FeS2薄膜太阳电池的制备方法,其特征是:在衬底上制备一层厚度为200nm‑300nm的金属钼(Mo)膜作为背电极,在Mo膜上采用蒸发制备厚度为1.5um‑2.0um的FeS2薄膜并进行硫化处理形成P层,在FeS2膜上采用电化学沉积厚度为5nm‑20nm的CdS薄膜作为缓冲层,在CdS薄膜上溅射制备i‑ZnO厚度为300nm~350nm,在i‑ZnO表面溅射制备厚度为25nm‑30nm的Al膜,并结合快速光热退火处理,在表面形成一层20nm‑50nm的ZnO:Al薄膜作为透明导电氧化层,最后蒸发制备厚度为80nm‑100nm的MgF2减反膜,经过激光刻蚀和清洗后采用溅射制备了厚度为120nm‑150nm的Ag‑Mg合金作为前电极,从而制备出结构为衬底/Mo/FeS2/CdS/i‑ZnO/ZnO:Al/MgF2/Ag‑Mg的FeS2薄膜太阳电池;其中,在背电极表面采用电子束蒸发系统制备厚度为1.5um‑2.0um的FeS2膜,本底真空为4.0×10‑4pa,蒸发电流为0.65A‑0.75A,电压随电流自动设置,高压为80KV,束流5mA‑15mA;将制备的FeS2膜样品放入管式硫化炉中进行硫化25min‑30min。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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