[发明专利]阵列基板及其制作方法以及显示装置有效
| 申请号： | 201510451457.9 | 申请日： | 2015-07-28 |
| 公开（公告）号： | CN104979217B | 公开（公告）日： | 2017-11-07 |
| 发明（设计）人： | 韩承佑;严允晟;郑皓亮 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/336 | 分类号： | H01L21/336;H01L29/786;H01L27/12 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙)11201 | 代理人： | 张润 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种阵列基板制作方法、阵列基板以及显示装置，上述方法包括在基底上形成栅极；在所述栅极上形成栅绝缘层；在所述栅绝缘层中形成第一过孔；在所述栅绝缘层上形成有源层，以使所述有源层通过所述第一过孔电连接至所述栅极。连接至栅极，可以减少有源层和栅极之间的堆积电荷，进而避免在两者之间发生静电释放。 | ||
| 搜索关键词： | 阵列 及其 制作方法 以及 显示装置 | ||
【主权项】：
一种阵列基板制作方法，其特征在于，包括：在基底上形成栅极；在所述栅极上形成栅绝缘层；在所述栅绝缘层中形成第一过孔；在所述栅绝缘层上形成有源层，以使所述有源层通过所述第一过孔电连接至所述栅极；对所述有源层进行刻蚀，以使所述刻蚀后的有源层与所述栅极绝缘。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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